台积电与英特尔力推玻璃基板技术,预计行业将迎超40%年复合增长,掌握核心原片与TGV工艺的设备商将率先爆发,长期看好算力封装升级红利。

为什么台积电与英特尔争相布局玻璃基板技术?

算力芯片功耗激增使得传统有机基板面临传输瓶颈,玻璃基板凭借低介电常数成为打破算力墙的关键。台积电计划将部分产能升级至台积电CoPoS技术并启动首条试验产线;英特尔同步展示Intel Glass-Core加EMIB先进封装样品,成功实现45μm凸点间距的极限突破。玻璃基板具备极低的热膨胀系数,能把芯片变形与信号损耗降至最低。

巨头布局进展核心技术路线关键工艺指标
台积电CoPoS (Chip on Panel Substrate)升级部分产能,首条试验线启动
英特尔Glass-Core 结合 EMIB凸点间距极致缩微至 45μm

玻璃基板产业链的真正爆发点在何时?

玻璃基板产业链爆发点紧随巨头商业化验证的订单进度。行业预计商业化元年将出现在台积电与英特尔产线具备规模化量产能力之际,并在随后的三年内进入快速渗透期。投资需高度重视商业化验证前后的订单、送样和试产进度。 由于玻璃材质极易脆裂,产业链的价值增量将高度集中在TGV(玻璃通孔)工艺的激光钻孔与高精度填孔设备上。

发展阶段产业链特征核心受益环节
商业化元年试验线向试产线过渡,送样验证频繁TGV激光钻孔设备、核心原片材料
快速渗透期大批量订单落地,良率稳步提升高精度电镀液、定制化测试设备

常见问题

什么是台积电CoPoS技术,为何能推动算力升级?

台积电CoPoS(Chip on Panel Substrate)是基板材料的革命性升级,用平整坚硬的玻璃替代易翘曲的有机材料,解决高算力芯片的传输与散热瓶颈,能将封装密度提升30%以上。

为什么玻璃基板投资要紧盯商业化验证前后的进度?

新兴材料从实验室到量产的风险极高。设备与材料商在商业化验证前后的订单、送样和试产进度,直接决定后续产能能否顺利爬坡,率先跑通试产环节的企业将独占初期约80%的红利。

TGV工艺在玻璃基板产业链中扮演什么角色?

TGV(玻璃通孔)工艺是实现芯片间垂直信号互联的核心,相当于在易碎的玻璃上精准打通并填平微观“立交桥”。该工艺直接决定最终芯片良率,相关激光钻孔与电镀设备占整线资本开支超40%。

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