应用材料通过外延并购从单一设备商扩张为多领域龙头的路径,对国产半导体设备企业具有参考价值,但完全复制这条路径难度较大。国产设备企业目前以自主研发为主,并购标的稀缺,不过产业转移、政策支持(大基金二期募资2041亿元)和技术迭代放缓三大历史机遇,为国产设备企业通过“自主研发+外延并购”双轮驱动加速国产替代提供了可能。
应用材料的并购扩张路径
半导体设备行业技术壁垒高、市场份额高度集中,且设备种类繁多、差异巨大。对于一家企业而言,很难通过纯自主研发实现跨设备发展——即便是国际巨头应用材料,也是通过不断的外延并购,才扩张成为多领域龙头。其历史上多次收购覆盖了晶圆级封装、离子注入系统、光罩生产等多个方向,甚至曾尝试收购东京电子以抢占市场、形成垄断(最终未成功)。
国产设备企业的并购条件与挑战
三大历史机遇提供支撑
当前正处于半导体产业第三次转移进程中,目的地正是中国大陆——中国已成为全球最大的半导体消费市场,大陆地区晶圆制造市场份额从2005年的7%提升至2020年的23%。与此同时,国家政策持续加码,大基金二期重点投资半导体设备和材料领域,募集资金2041亿元,可撬动社会融资规模可观。此外,芯片制程迭代放缓(从22nm节点开始明显减速),也为国产设备在技术上追赶提供了窗口期。
国产化率梯度决定并购优先级
不同设备的国产化率差异显著,这直接影响了外延并购的优先级排序:
| 设备类型 | 国产化率 | 主要国内厂家 |
|---|---|---|
| 去胶设备 | 90%以上 | 屹唐股份 |
| 清洗设备 | 20%左右 | 盛美股份、北方华创 |
| 刻蚀设备 | 20%左右 | 中微公司、北方华创、屹唐股份 |
| 热处理设备 | 20%左右 | 屹唐股份、北方华创 |
| PVD设备 | 10%左右 | 北方华创 |
| CMP设备 | 10%左右 | 华海清科 |
| 涂胶显影设备 | 零的突破 | 芯源微 |
| 光刻设备 | 预计将有零的突破 | 上海微电子 |
去胶设备国产化率已超90%,成长性相对有限;而光刻设备仍处于从0到1的阶段,不确定性较大。刻蚀和薄膜沉积设备国产化率均在20%左右,兼具市场空间与替代空间,是观察国产替代进程的重点赛道。
常见问题
国产设备企业能否通过并购快速实现多领域覆盖?
难度较大。半导体设备细分领域众多且技术差异大,并购是应用材料实现多领域覆盖的关键手段,但国内可供并购的优质标的相对稀缺。企业自身实力(市占率和技术节点)仍是决定成长天花板的根本因素。
大基金对国产设备企业的支持体现在哪些方面?
大基金二期重点投资半导体设备和材料领域,北方华创、中微公司、盛美上海等头部设备企业的前十大股东中均能看到大基金的身影。除了资金支持,大基金还投资了国内众多晶圆厂,在其穿针引线下,晶圆厂对国产设备的接受度明显提升。
哪些设备赛道的国产替代机会更值得关注?
刻蚀和薄膜沉积设备是三大核心设备赛道(光刻、刻蚀、薄膜沉积)中更具确定性的方向——两者国产化率均在20%左右,替代空间大,且技术迭代放缓为追赶提供了时间窗口。光刻设备虽市场空间大,但当前仍处于从0到1阶段,不确定性较高。