中微公司的Nanova ICP设备自2020年起获得客户重复订单，标志着其ICP产品线已通过产线验证并进入规模化销售阶段。在全球半导体先进制程持续扩产和国产替代加速的背景下，刻蚀设备市场仍具备可观增长空间，尤其是在5nm及以下逻辑芯片和1Xnm内存芯片等领先工艺的推动下。
技术进展与产品布局
中微公司的ICP设备当前制程已达到28nm，并正在积极研发面向5nm逻辑芯片和1Xnm内存芯片的下一代产品。其ICP产品线包括单台机Nanova和双台机Twin-Star，后者同样主打高输出、低成本，市场反馈积极。在CCP领域，中微的传统优势更为深厚，设备已覆盖7nm和5nm量产，并进入台积电供应链。
市场增长驱动力
刻蚀设备市场的增长主要来自两大趋势。一是先进制程对刻蚀次数的指数级增长：资料显示，从65nm节点的20次刻蚀增加至5nm节点的160次，驱动单条产线对刻蚀设备的需求大幅提升。二是存储芯片向3D结构发展，3D NAND中刻蚀设备的价值量占比从2D NAND的15%提升至50%。根据Gartner数据，全球刻蚀设备市场规模预计将从2019年的109亿美元提升至197亿美元，复合增长率超过20%。
国产替代的潜在空间
在2020年大陆刻蚀设备市场中，中微公司占据约20%的市场份额，北方华创约占6%，而泛林半导体等海外厂商合计占比超70%。随着中微公司ICP产品线成熟并进入更多晶圆厂，以及CCP领域的大马士革刻蚀和高深宽比刻蚀产品即将推出，国产刻蚀设备的渗透率仍有较大提升空间。
常见问题
中微公司的ICP设备与北方华创的ICP设备有何差异？
两者在ICP领域形成直接竞争。中微公司ICP设备制程达28nm，并正在研发5nm及1Xnm产品；北方华创的ICP设备同样达到28nm，且14nm工艺已在验证中。两家公司在该领域的技术水平相当，均处于国内领先梯队。
中微公司ICP设备未来的增长点在哪里？
主要增长点在于：一是面向先进逻辑芯片的5nm ICP设备研发；二是面向1Xnm内存芯片的ICP设备开发；三是双台机Twin-Star的市场拓展，有望帮助公司提升市占率。
刻蚀设备市场增长的主要驱动力是什么？
核心驱动力是制程升级带来的刻蚀次数大幅增加（如5nm节点需160次刻蚀），以及3D NAND等存储芯片结构3D化后刻蚀设备价值量占比从15%提升至50%。同时，国产替代进程也为国内设备厂商提供了增量空间。