在CMP抛光液的核心原材料中，磨粒约占原材料成本的50%-70%，其核心技术仍被海外巨头垄断。国内抛光液厂商安集科技的磨粒目前主要采购自日本厂商，属于尚未完全自主的关键环节。公司正在建设材料基地，专门用于研发生产高端磨粒及电子级添加剂等关键原材料，这是推进关键原材料自产化、降低进口依赖的重要一步。随着原材料逐步自产化，其盈利能力也有望进一步提升。

为什么磨粒是自主可控的关键短板

CMP即化学机械抛光，是晶圆全局平坦化的核心工艺。抛光液与抛光垫是两大关键材料，价值量占比分别为49%和33%。

抛光液成分复杂，包括氧化剂、磨粒、络合剂等，需按一定比例配制。其中磨粒是最核心的组分，用机械方法去除抛光工件表面多余材料，目前最常用的是二氧化硅。其生产壁垒在于让所有磨粒的硬度和形状保持一致，以保障产品的一致性和可靠性。

正因技术门槛高，磨粒核心技术仍被海外巨头垄断。国内新安纳虽具备生产能力，但产品线较少；安集科技的磨粒则主要采购自日本厂商。

材料基地对自主可控意味着什么

安集科技自成立起即专注CMP抛光液业务，定位为全产品解决方案，主力产品已获大陆晶圆厂高度认可，并成为台积电供应商，技术积累较强。

在原料端，公司一方面采购新安纳产品，另一方面建设材料基地，专门研发生产高端磨粒及电子级添加剂等关键原材料。该基地指向的是从“外购核心原料”向“关键原材料自产化”的转变，有助于降低对日本厂商的进口依赖、提升供应链安全性。资料同时指出，随着原材料逐步自产化，公司盈利能力有希望进一步提升。需要说明的是，材料基地的产能释放与客户验证节奏，官方尚未公布具体时间表。

常见问题

安集科技的磨粒目前来自哪里？

安集科技的磨粒目前主要采购自日本厂商，这属于尚未完全自主的关键环节。公司同时也在采购国内新安纳的产品，但新安纳产品线相对较少。

建设材料基地的目的是什么？

该材料基地专门用于研发生产高端磨粒以及电子级添加剂等关键原材料，目标是实现关键原材料自产化。资料表述为，随着原材料逐步自产化，公司盈利能力有希望进一步提升。

这是否意味着磨粒环节已实现自主可控？

材料基地是推进自主可控的重要一步，但产能建设、客户验证与批量导入仍需时间，具体推进节奏以公司后续公开披露为准。