在CMP抛光液的成本结构中，磨粒是核心原材料，约占原材料成本的50%-70%。目前磨粒核心技术仍由海外巨头垄断，国内抛光液厂商安集科技的磨粒主要采购自日本厂商，国内新安纳虽有生产能力但产品线较少。因此，在上游磨粒供应商与国产抛光液厂商之间，议价权整体偏向掌握核心磨粒技术的海外供应商；国产厂商的议价能力更多取决于自身配方Know-how积累与原材料自产化推进程度。

成本结构与议价关系的来源

CMP即化学机械抛光，是半导体制造中的重要工艺环节。CMP的两大核心材料为抛光液和抛光垫，价值量占比分别为49%和33%。

抛光液由氧化剂、磨粒、络合剂等多种组分按比例配制而成，生产难点集中在两方面：一是使各组分达到合适浓度，二是控制磨粒的硬度和形状。磨粒用机械方法去除抛光工件表面多余材料，是抛光液最核心的组分，约占原材料成本的50%-70%。

从安集科技的采购数据看，2016至2018年研磨颗粒采购金额分别为5800万元、5900万元、5100万元，在主要原材料采购中占据主要部分。这一结构意味着，磨粒价格与供应稳定性会直接传导至抛光液厂商的成本端。

议价权为何偏向上游

磨粒的核心技术仍被海外巨头垄断。国内新安纳虽具备生产能力，但产品线比较少。安集科技的磨粒主要采购自日本厂商，对海外供应存在依赖。

议价权的分布还受另一因素影响：抛光液定制化程度很高，不同客户有不同需求，生产企业必须不断找到合适配方和稳定制作工艺，这主要考验Know-how经验，依赖长时间技术积累和持续研发尝试。在配方能力尚未完全转化为原材料自主能力之前，国产抛光液厂商在磨粒采购端的议价空间相对有限。

国产厂商的应对路径

安集科技自2006年成立起即专注CMP抛光液业务，定位为全产品解决方案（total solution），在七大类抛光液中，产品分别处于量产、上线或研发论证阶段。其主力产品已获得大陆晶圆厂认可，并成为台积电的供应商。

在原材料自主可控方面，安集科技除采购新安纳产品外，还在建设材料基地，专门用于研发生产高端磨粒及电子级添加剂等关键原材料。随着原材料逐步自产化，其在磨粒环节的议价地位有望改善。

常见问题

磨粒为什么能决定抛光液厂商的议价地位？

磨粒是抛光液最核心的组分，约占原材料成本的50%-70%，且核心技术由海外巨头垄断，国产厂商采购渠道相对集中。成本占比高叠加供应依赖，使上游磨粒供应商在价格与供货条件上拥有更强话语权。

国产抛光液厂商如何降低对进口磨粒的依赖？

以安集科技为例，一方面采购国内新安纳的产品，另一方面自建材料基地，研发生产高端磨粒和电子级添加剂等关键原材料。原材料逐步自产化，是改善成本传导压力和议价地位的主要路径。

抛光液定制化程度高，对议价能力有什么影响？

抛光液定制化程度高，企业需针对不同客户持续开发合适配方与稳定工艺，这依赖长期Know-how积累。配方能力强的厂商在客户端黏性更高，但在磨粒采购端能否获得更优条件，仍取决于其原材料自主化进度。