CMP抛光液的核心原料——磨粒，其核心技术目前仍被海外巨头垄断，国内厂商新安纳虽有生产能力但产品线较少，而国内抛光液龙头安集科技的磨粒仍主要采购自日本厂商。不过，安集科技正在建设材料基地，专门研发生产高端磨粒，行业竞争格局正从海外绝对主导转向国产加速突破。
CMP抛光液磨粒环节：海外垄断现状
磨粒是抛光液最核心的组分，占原材料成本的50%-70%。目前最常用的磨粒是二氧化硅，生产壁垒在于要让所有磨粒的硬度和形状高度一致，以保障产品的一致性和可靠性。磨粒的核心技术仍然被海外巨头垄断，国内新安纳虽然具备生产能力，但产品线较少，难以覆盖全品类需求。
国内厂商的应对与布局
安集科技是国内CMP抛光液领域的代表企业，其产品已获得大陆晶圆厂高度认可，并成为台积电的供应商。在磨粒供应方面，安集科技目前主要采购自日本厂商，同时也在建设材料基地，专门用于研发生产高端磨粒及电子级添加剂等关键原材料，逐步推进上游材料的自主可控。这一布局有望提升公司未来的盈利能力。
常见问题
国内是否有磨粒供应商？
国内新安纳有磨粒生产能力，但产品线较少。安集科技在采购新安纳产品的同时，正通过自建材料基地研发高端磨粒，以降低对海外供应商的依赖。
海外巨头在磨粒市场的地位如何？
磨粒核心技术和市场份额主要由海外巨头主导，日本厂商在高端磨粒供应中占据重要地位。国内厂商在产能规模和产品线丰富度上仍有明显差距。
安集科技在磨粒环节的自主化进展如何？
安集科技正在建设材料基地，专门研发生产高端磨粒及电子级添加剂。未来随着原材料逐步自产化，其供应链自主可控能力有望进一步增强。