CMP抛光液磨粒自主化，国内抛光液厂商能否突破海外垄断壁垒？短期看，核心磨粒技术仍被海外巨头垄断，但国内厂商已在积极布局自主化，突破的关键在于磨粒硬度与形状一致性的控制，长期具备可行性。
磨粒是抛光液最核心的组分，占原材料成本的50%-70%。目前最常用的磨粒是二氧化硅，其生产壁垒在于要让所有磨粒的硬度和形状都保持高度一致，以保障最终产品的一致性和可靠性。当前，磨粒的核心技术仍被海外巨头垄断，国内的新安纳虽具备生产能力，但产品线较少；以国内代表性抛光液厂商安集科技为例，其磨粒仍主要采购自日本厂商。不过，安集科技正建设材料基地，专门用于研发生产高端磨粒及电子级添加剂等关键原材料，推动原材料逐步自产化，这一进程有望提升其盈利能力。
磨粒自主化的技术壁垒在哪里
磨粒自主化的核心难点在于工程化控制，而非单一配方。抛光液由氧化剂、磨粒、络合剂、表面活性剂、缓蚀剂、pH调节剂等多种组分构成，生产难点除了要使各组分达到合适浓度外，更关键的是控制磨粒的硬度和形状。只有所有磨粒在硬度和形状上保持高度一致，才能保障抛光液在晶圆平坦化过程中的稳定表现，避免划伤或抛光不均。这种对微观颗粒一致性的极致要求，是磨粒从“能造”走向“造好”的最大门槛。
国内厂商的突破口：纵向一体化与配方积累
国内厂商的突破路径清晰指向原材料自产化与配方Know-how的双重积累。一方面，以安集科技为代表的抛光液龙头正通过自建材料基地，向高端磨粒等上游关键原材料延伸，降低对日本厂商的采购依赖；另一方面，抛光液定制化程度极高，不同客户需求各异，生产企业必须不断寻找合适配方并稳定制作工艺，这考验的是长期积累的经验，只能靠持续研发尝试来沉淀。此外，国内厂商在抛光液成品端已具备较强竞争力——安集科技的产品不仅获大陆晶圆厂高度认可，还已成为台积电供应商，这为磨粒自主化提供了宝贵的市场验证与迭代基础。
常见问题
磨粒在抛光液成本中占比有多高？
磨粒是抛光液最核心的组分，占原材料成本的50%-70%。以安集科技主要原材料采购金额为例，研磨颗粒的采购金额常年显著高于化工原料、包装材料等其他类别。
国内目前有能生产磨粒的厂商吗？
有，但产品线较少。国内的新安纳具备磨粒生产能力，不过产品线相对有限；国内主流抛光液厂商的磨粒采购仍以日本厂商为主，磨粒核心技术整体仍被海外巨头垄断。
磨粒自主化的关键难点是什么？
关键在于控制磨粒的硬度和形状一致性。最常用的二氧化硅磨粒要求所有颗粒在硬度和形状上保持高度一致，才能保障抛光液产品的一致性和可靠性，这是衡量磨粒生产水平的核心工程指标。