抛光液的高定制化特性，使其配方Know-how成为国产替代的核心壁垒。国内厂商已在中低制程实现突破，但先进节点（如7nm以下）仍依赖海外经验积累。突破方向在于：建立专属配方数据库、提升批次稳定性、并与晶圆厂深度联合开发，逐步积累实测数据以缩小差距。
抛光液的高定制化与Know-how壁垒
抛光液是化学机械抛光（CMP）中的关键材料，价值量占比达49%。其生产难点在于：一方面，磨粒（核心组分，占原材料成本50%-70%）的硬度和形状需高度一致，保障产品稳定性；另一方面，配方需根据不同客户需求高度定制，这考验的是长期积累的Know-how经验，只能靠企业长时间的技术积累和研发尝试来突破。
国内厂商的追赶现状
国内CMP抛光液领域的代表企业是安集科技。公司自2006年起专注抛光液业务，定位为“全产品解决方案”（total solution），产品覆盖七大类抛光液，已获得大陆晶圆厂高度认可，并成为台积电的供应商。在原材料方面，安集科技正推进关键原材料的自产化，包括建设专门用于研发生产高端磨粒的材料基地。
常见问题
国内抛光液厂商在先进制程上进展如何？
官方资料显示，安集科技的产品已覆盖多类抛光液，但在具体先进节点（如7nm以下）的突破情况未给出详细数据。整体而言，国内厂商在成熟制程的国产替代已取得进展，先进制程的追赶仍在持续。
如何突破配方Know-how壁垒？
突破方向包括：通过大量实测数据积累建立专属配方数据库；提升产品批次间的一致性；与晶圆厂进行深度联合开发，在合作中积累定制化经验。这些都需要长期投入和持续研发。
除了安集科技，还有哪些国内厂商值得关注？
官方资料重点介绍了鼎龙股份，该公司已实现抛光垫量产，硬垫产品覆盖28nm以上全部制程，部分产品效率甚至高于海外品牌。其软垫产线投产后，将具备全系列抛光垫生产能力。