半导体材料自主可控政策的持续推进,为国产CMP抛光垫企业创造了更明确的替代窗口。**鼎龙股份是国内目前唯一实现抛光垫产品量产的企业,截至2018年8月,其以7件专利位列中国内地抛光垫领域五大专利权人第二位,填补了国内在抛光垫原材料和制作方面的专利空白,并已在2021年实现核心原材料自产化。**政策环境并不直接改变专利数量,但会通过加速晶圆厂验证导入、强化供应链安全诉求,间接影响企业的研发投入节奏与国产替代进程。
政策如何传导至抛光垫的研发与替代节奏
CMP是化学机械抛光,在半导体制造中重要程度仅次于光刻、刻蚀和薄膜沉积。抛光垫与抛光液是两大核心材料,价值量占比分别为33%和49%。抛光垫的制作难点在于聚氨酯孔洞结构的规整程度,相关生产专利长期集中在海外巨头手中,突破技术壁垒、做出微细而均匀的孔洞结构,是国产化的关键。
自主可控政策的核心作用,是把下游晶圆厂的国产化诉求转化为实际订单与验证机会。国内晶圆厂对CMP材料国产化诉求本就较高,政策进一步强化了这一倾向。对鼎龙股份而言,这意味着研发投入更容易获得客户配合与验证通道,专利布局也能更快从“原材料与制作”环节向全制程产品延伸。
鼎龙股份的专利位置与产品覆盖
| 维度 | 情况 |
|---|---|
| 专利数量(截至2018年8月) | 7件,国内抛光垫领域并列第二 |
| 专利特点 | 填补国内抛光垫原材料和制作方面的专利空白 |
| 原材料自产 | 2021年实现核心原材料自产化 |
| 硬垫制程覆盖 | 28nm及以上全部制程,14nm部分已认证通过、部分测试推进中 |
| 客户 | 长江存储、武汉新芯、中芯国际、长鑫存储等国内主流晶圆厂,部分晶圆厂内达到一供地位 |
需要说明的是,中芯国际同期以20件专利位居第一,但其专利更多集中在应用领域,鼎龙的专利则落在原材料与制作环节,两者在产业链上的位置不同。政策推动下,这类“补空白”型专利的战略意义会被进一步放大。
常见问题
政策推进是否直接增加了鼎龙股份的抛光垫专利数量?
专利数量由企业研发投入与申请节奏决定,政策本身不直接生成专利。可确认的事实是,截至2018年8月鼎龙股份已有7件相关专利,填补了国内抛光垫原材料和制作方面的专利空白;政策的作用更多体现在加速国产替代需求释放,从而影响后续研发投入的持续性。
鼎龙股份的抛光垫目前能覆盖哪些制程?
其硬垫产品覆盖28nm及以上全部制程,14nm节点部分产品已认证通过、部分仍在测试推进中。客户包括长江存储、武汉新芯、中芯国际、长鑫存储等国内主流晶圆厂,部分晶圆厂内已达到一供地位。
自主可控政策对国产抛光垫的替代节奏意味着什么?
国内晶圆厂对抛光液和抛光垫的国产化诉求较高,政策强化了这一方向。鼎龙股份已实现量产与核心原材料自产化,并计划拓展海外市场;具体替代节奏仍取决于各晶圆厂的验证进度与产线投放情况,需以公司后续公告及公开披露为准。