半导体制造中使用的气体超过100种，电子特气与大气体用量约各占一半，而电子特气正是国内半导体材料中相对薄弱的一环，国产化率尚不足15%。国内厂商的突破主要围绕两个技术瓶颈展开：一是气体提纯，二是混合气体的精确配比。在提纯环节，金宏气体的超纯氨纯度达99.999998%、高纯氧化亚氮纯度达99.9999%，华特气体的高纯二氧化碳纯度达99.9997%，南大光电的磷烷、砷烷纯度达99.9999%，派瑞特气可提供36种99.99%以上高纯度的电子特种气体。在混配环节，华特气体自主研发的4种光刻混合气已通过阿斯麦认证，另有锗烷产品通过海力士、英飞凌认证，以及更多产品获得中芯国际、合肥长鑫等国内晶圆厂认证。
纯度：从5N到6N以上的门槛
电子特气区别于普通工业气体最明显的特征就是纯度。气体的纯度直接影响芯片的技术指标和良率，进入纳米时代后，气体纯度至少要达到5N，而先进制程则要求达到6N以上。提纯的原理包括精馏分离、分子筛吸附分离和膜分离三大类，实际操作中往往需要多种方法组合使用，以提升效率与良品率，工艺复杂、研发壁垒高。国内厂商已在多个单品上形成突破，例如金宏气体的超纯氨、高纯氧化亚氮，华特气体的高纯二氧化碳，南大光电的磷烷、砷烷等，均达到较高纯度水平。
混配精度：光刻气的核心参数
半导体制造中常需多种特气按特定比例混合使用，光刻气即包含氩/氟/氖混合气、氪/氖混合气等多种类型，是光刻机产生深紫外激光的光源。混配需根据需求运用重量法、分压法、动态体积法等，对累计误差控制和配比精度要求极高。配比精度是其中最核心的参数——若混合气精度与要求相差偏大，会造成光线波长偏差，进而影响光刻机分辨率。华特气体的4种光刻混合气通过阿斯麦认证，是国产混配能力获得终端认可的代表性进展。
认证：国产替代的关键关卡
国内气体公司多处于追随者位置，稳定供应高品质产品的能力仍在积累，终端晶圆厂或设备商通常不愿直接使用，真正获得认证的国产厂商较少。部分企业产品已能满足终端需求，但因缺少认证，暂时只能通过国际大厂贴牌销售。全球及中国电子特气市场目前仍由美国空气化工、德国林德集团、法国液化空气、日本大阳日酸等国际厂商占据主要份额。在此背景下，是否获得认证，尤其是海外终端厂商认证，成为衡量气体公司产品水平的重要参考。
常见问题
国内厂商在电子特气纯度上突破了哪些产品？
金宏气体的超纯氨纯度达99.999998%、高纯氧化亚氮纯度达99.9999%；华特气体的高纯二氧化碳纯度达99.9997%；南大光电的磷烷、砷烷纯度达99.9999%；派瑞特气拥有36种99.99%以上高纯度的电子特种气体。这些产品覆盖刻蚀、沉积、离子注入等环节。
混合气体配比精度为什么重要？
混合气需按特定比例精确混配，配比精度是最核心的参数。以光刻气为例，精度偏差偏大会造成光线波长偏差，影响光刻机分辨率。华特气体自主研发的4种光刻混合气已通过阿斯麦认证，另有锗烷产品通过海力士、英飞凌认证。
国产电子特气目前的整体水平如何？
电子特气仍是国内的薄弱环节，国产化率不足15%。国内已有多个厂商在不同单品上实现突破，部分产品纯度达到国际先进水平，但真正通过终端客户认证的厂商仍较少，多数企业以给国际大厂代工为主，认证进展是观察国产替代节奏的重要窗口。