日本住友将其独家持有的RPD(反应式等离子体沉积)技术授权给捷佳伟创后,钙钛矿设备产业链最直接的变化是:原本由日本住友独家的RPD技术路径,自此有了捷佳伟创这一本土设备商作为新的承接与产业化主体,上游核心工艺环节的供应格局由“单一海外来源”转向“海外授权+本土制造”的协同分工。
在钙钛矿电池的设备体系中,PVD(物理气相沉积)是制备电子传输层、空穴传输层以及TCO玻璃、电极层的关键工艺,其下分为蒸镀、磁控溅射镀和RPD三种路线。其中前两者较为成熟,而RPD此前是日本住友的独家技术,授权给捷佳伟创后,捷佳伟创得以将RPD纳入自身的钙钛矿设备布局版图。对上游而言,RPD设备的核心部件与工艺know-how仍带有住友技术基因,但设备制造、集成与交付环节开始向国内转移;对下游电池片厂商而言,意味着在选购RPD路线设备时多了一个本土化的对接窗口,设备调试、工艺验证与售后响应的链条有望缩短。
从产业链价值分配看,钙钛矿技术变革的第一波红利往往由设备厂享受,电池厂大多要等产业链成熟后才迎来投资机会。RPD授权强化了捷佳伟创在钙钛矿真空镀膜环节的卡位,使其与下游电池片厂商的协同开发具备了更完整的工艺抓手。不过,RPD仅是PVD三条路线之一,涂布、印刷、激光等其他设备环节的竞争格局并不因这一授权而改变,各路线之间的性价比与良率比拼仍需以实际量产数据验证。
钙钛矿设备产业链的主要环节
钙钛矿组件(以反式平面结构为例)的生产涉及多层膜制备与电路刻蚀,核心设备可分为四类:
| 设备类型 | 主要用途 | 工艺路线 |
|---|---|---|
| 涂布 & 印刷 | 制备钙钛矿层 | 狭缝涂布(主流)、刮刀涂布、丝网印刷等 |
| PVD 设备 | 制备电子/空穴传输层、TCO玻璃、电极层 | 蒸镀、磁控溅射镀、RPD |
| 激光设备 | 刻蚀电路结构 | P1-P4 四道激光工序 |
| 封装设备 | 组件封装 | 与晶硅电池差异不大 |
其中,涂布与印刷设备、PVD设备都与面板行业的TFT制程高度相关,因此该领域能看到不少此前服务面板行业的设备公司跨界切入。激光设备的核心壁垒在于激光器能否自制,这也是衡量设备商竞争力的关键维度。
RPD授权如何重塑上下游分工
RPD技术授权对产业链的影响主要体现在三个层面:
- 上游供应格局:RPD设备从“日本住友独家供应”转变为“捷佳伟创承接技术授权并本土化制造”,上游核心设备环节的供应来源更加多元化,对下游电池片厂商而言多了一个可选的本土供应商。
- 中游设备商卡位:捷佳伟创借此完善了在钙钛矿真空镀膜环节的布局,形成从涂布到PVD的设备覆盖能力,与下游电池片厂商的联合开发有了更完整的工艺基础。
- 下游协同模式:钙钛矿行业的核心难点并不在设备本身,而在于工艺——即驾驭设备的人所掌握的know-how。RPD授权使捷佳伟创能够更深度地参与下游客户(如协鑫光电、纤纳光电等布局钙钛矿的企业)的工艺验证与迭代,推动设备与工艺的协同优化。
需要指出的是,RPD(相对新颖)与蒸镀、磁控溅射镀同属PVD范畴,三者各有优劣势。RPD授权改变了捷佳伟创在PVD细分路线的供给能力,但并未改变涂布、激光等其他设备环节的竞争结构。各技术路线在量产中的表现,仍需以第三方实测数据和后续产业化进展为准。
常见问题
RPD技术和PVD是什么关系?
RPD是PVD(物理气相沉积)技术下的三种工艺路线之一,另外两种是蒸镀和磁控溅射镀。PVD设备在钙钛矿电池中主要用于制备电子传输层、空穴传输层,以及TCO玻璃和电极层。RPD此前是日本住友的独家技术,相对较为新颖。
捷佳伟创获得RPD授权后,在钙钛矿设备领域有哪些布局?
捷佳伟创获得RPD技术授权后,官方表述中常提及的钙钛矿设备布局即包含RPD。结合其路演资料中展示的钙钛矿制作工艺流程,捷佳伟创的设备能力覆盖了从FTO玻璃清洗、各膜层制备到激光划刻与封装的全套工序环节。
除RPD外,钙钛矿设备还有哪些技术路线?
钙钛矿设备主要有四类:用于制备钙钛矿层的涂布(狭缝涂布为主流)与印刷设备、用于制备传输层等功能的PVD设备(含蒸镀、磁控溅射镀、RPD三种)、用于刻蚀电路结构的激光设备(P1-P4四道工序),以及封装设备。这些设备并非钙钛矿行业专属,在面板、锂电等行业已有应用基础,针对钙钛矿进行了工艺优化。