北方华创在溅射PVD设备领域已取得约20%的市占率（以长江存储中标机台数量计算），这是国产半导体设备在薄膜沉积环节的重要突破。薄膜沉积设备是芯片制造三大核心设备之一，与刻蚀互为反向工艺。随着制程升级和芯片3D化（如3D NAND），薄膜沉积工序量大幅增加，产业链上下游的格局也在加速演变：上游关键零部件（靶材、真空泵、射频电源）的国产化率仍较低，构成供应风险；下游以长江存储为代表的晶圆厂正持续导入国产PVD设备，采购节奏稳步推进；而设备集成环节，北方华创凭借较强的议价能力，在产业链价值分布中占据有利位置。
薄膜沉积设备：PVD与CVD的互补关系
薄膜沉积主要分为四大类：化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、原子层沉积（ALD）和外延沉积。其中，PVD又包括溅射PVD和蒸镀PVD。在半导体薄膜沉积设备市场中，各细分品类占比不同：PECVD（一种CVD）占比最大，约33%；溅射PVD占比约19%；ALD占比约11%。每种设备因特点差异，适用领域不同，不存在明显的替代关系，而是互补共存。PVD主要用于金属导电薄膜的沉积，而CVD则更擅长介质材料（绝缘）的沉积。
产业链格局：上游零部件、设备集成与下游晶圆厂
- 上游关键零部件：PVD设备的核心零部件包括靶材、真空泵、射频电源等。目前这些零部件的国产化程度参差不齐，部分高端部件仍依赖进口，构成供应链风险。
- 设备集成（北方华创）：北方华创在溅射PVD领域是国内龙头，已推出多款PVD产品，覆盖90-14nm制程，成功打破应用材料的垄断。其PVD产品对下游议价能力较强，这在国产设备中较为罕见。在CVD和ALD领域，北方华创也有布局，其中ALD产品技术节点覆盖至28nm。
- 下游晶圆厂（以长江存储为例）：根据长江存储的招标数据，北方华创的薄膜设备中标数量从2018年的2台增加到2020年的4台，国产化率（以机台数量计算）从2%提升至4%。华虹无锡、华力集成等晶圆厂的薄膜设备国产化率总体在10%左右。下游晶圆厂对国产PVD设备的导入节奏总体平稳，且呈现逐年提升趋势。
常见问题
北方华创溅射PVD的20%市占率数据从何而来？
该数据基于长江存储历年薄膜沉积设备的中标机台数量统计得出，反映了北方华创在特定客户（长江存储）的溅射PVD设备采购中的份额。需要注意的是，该口径为机台数量占比，并非整体市场规模占比。
薄膜沉积设备中，哪些品类国产替代进展最快？
目前，溅射PVD领域国产替代进展最为突出，北方华创市占率约20%；CVD领域，拓荆科技是唯一实现PECVD产业化的国产厂商，但在长江存储的CVD设备中总占比约2-3%；ALD领域两家公司均有布局，但整体国产化率仍处于早期阶段。
产业链中哪个环节的议价能力最强？
从现有信息看，设备集成环节（如北方华创的PVD产品）对下游晶圆厂具备较强议价能力，这在国产设备中较为罕见。上游零部件环节因国产化率低，供应端议价能力较强；下游晶圆厂作为买方，在国产化初期仍以导入和验证为主，整体议价能力相对均衡。