光通信光芯片的国产替代呈现明显的“低端快、高端慢”分化:10G VCSEL/EML 等难度较大的芯片国产化率不足 40%,25G 约 20%,25G 以上仅 5%,高端产品目前仍以海外光芯片厂商为主。 高端突破难,根源在于光芯片技术壁垒高、生产工艺复杂,产业投入极高而回报偏慢,越往高速率走,外延生长、光栅工艺、芯片高频测试等全流程能力的要求越苛刻。国内企业追赶较快,2021 年全球光通信最具竞争力企业 10 强中,中国企业已占据 4 个席位,其中光迅科技和中际旭创进入前 5。

国产替代率为何分化

光芯片是光器件和光模块的核心,市场规模以光有源芯片为主,占比超过 90%。我国光芯片市场规模从 2015 年的 6.49 亿美元上升至 2021 年的 14.97 亿美元,过去 7 年 CAGR 达 14.94%,预计到 2026 年有望扩大至 29.97 亿美元。市场扩容的同时,替代进度并不均衡:

光芯片分类国产替代率
10G10G VCSEL/EML 等芯片难度较大,不足 40%
25G20%
25G 以上5%

低速率产品国内已有较成熟的供应体系,而高速率芯片对材料、工艺与可靠性的综合要求陡增,导致替代率快速下降。

高端芯片难在哪里

一是技术壁垒高、工艺复杂。光芯片涉及外延生长、光栅工艺、光波导制作、金属化工艺、端面镀膜到芯片高频测试、可靠性验证等多道环节,任一环节的良率与一致性都会影响最终性能。

二是投入高、回报偏慢。光芯片产业前期投入极高,而产品验证与客户导入周期长,形成正循环的门槛较高。

三是高速率方案仍在研发布局中。以源杰科技为例,其正研发布局应用于数据中心 400G、800G 高速光模块的 100G EML 激光器、面向 400G DR4 架构的高速硅光模块,以及未来有望应用于 CPO 光引擎的工业级 50mW/70mW CW 大功率硅光激光器。相关产品性能的官方表述为“国内领先、国际先进”。

国内企业的追赶进度

国内光芯片企业追赶较快。2021 年全球光通信最具竞争力企业 10 强中,中国企业占据 4 席。其中源杰科技以 IDM 模式深耕光芯片产业,已建立覆盖 MOCVD 外延生长、光栅工艺、光波导制作、金属化工艺、端面镀膜、自动化芯片测试、芯片高频测试、可靠性测试验证等全流程自主可控的生产线。根据 ICC 数据,2021 年源杰科技 10G 光芯片市场占比 20%,已超过住友电工、三菱电机等,处于行业领先地位。客户方面,其产品已向海信宽带、中际旭创、博创科技、铭普光磁等主流光模块厂商批量供货,并用于中兴通讯、诺基亚等通讯设备商网络。

常见问题

光芯片国产替代目前处在什么水平?

整体呈现分化格局:10G VCSEL/EML 等难度较大的芯片国产化率不足 40%,25G 约 20%,25G 以上仅 5%,高端产品仍以海外光芯片厂商为主。全球市场主要由美中日三国主导,部分欧洲国家拥有技术储备。

高端光芯片突破的主要难点是什么?

主要难在技术壁垒高、生产工艺复杂,且产业投入极高、回报偏慢。高速率芯片对晶圆外延、制造工艺与可靠性验证的全流程能力要求更高,国内厂商多处于研发与布局阶段,产品性能的官方表述为“国内领先、国际先进”。

国内厂商在哪些环节已有进展?

部分厂商已实现全流程自主可控的生产线建设,并在 10G 等产品上取得较高市场份额。源杰科技 2021 年 10G 光芯片市场占比 20%,已超过住友电工、三菱电机等,处于行业领先地位,同时正推进 100G EML、大功率硅光激光器等高速率方向的研发。