在钙钛矿电池产线上，PVD（物理气相沉积）并非只服务上下两个传输层——做TCO玻璃和电极层时同样要用到PVD技术。由于各膜层在材料体系、成膜顺序与后续工艺上的角色不同，对镀膜设备提出的需求存在明显差异：传输层更看重成膜质量与对下层膜的保护，TCO玻璃与电极层则更强调与整线刻蚀、串联工序的配合。

传输层：成膜质量优先

钙钛矿在膜的层面主要分为三层——电子传输层、钙钛矿层、空穴传输层，上下两个传输层均由PVD承担。这类膜层直接与钙钛矿层接触，成膜质量是核心考量。从工艺路线看，PVD主要有三种，其中前两种较为成熟，第三种RPD原为日本住友的独家技术，现已授权给捷佳。设备选型时，需结合传输层在反式平面结构中的位置与后续激光工序来配置。

TCO玻璃与电极层：与刻蚀工序协同

TCO玻璃是钙钛矿电池的重要基底，其镀膜同样依赖PVD。在整线工序中，第一道工序是FTO玻璃的清洗并配合第一道激光，随后依次制作空穴传输层、钙钛矿层和电子传输层，其间需要P2、P3两道激光。这意味着TCO玻璃与电极层的镀膜设备，必须与P1至P4的激光刻蚀节奏相匹配。P1主要针对玻璃，后两道主要针对膜层，所用激光不同；P4用于清除无效区域，方便后续拼接。镀膜与刻蚀的衔接质量，直接影响电池串联与电压输出。

设备差异的本质

需要指出的是，无论哪种PVD工艺，本质都是镀膜，区别只是用在哪个层。钙钛矿的主要设备——涂布印刷、PVD、激光——并非钙钛矿专属，在面板等行业已有应用，只是针对钙钛矿做了优化。因此行业难点更多在工艺而非设备本身，驾驭设备的人拥有更多KNOW-HOW。

常见问题

钙钛矿PVD设备与涂布设备的分工是什么？

涂布与印刷主要用于钙钛矿层，而PVD用于传输层，同时也用于TCO玻璃和电极层。两类设备在面板行业均有较高关联度，只是针对钙钛矿做了工艺优化。

为什么TCO玻璃和电极层对PVD的要求不同于传输层？

因为TCO玻璃涉及第一道激光工序，电极层则与P2、P3刻蚀及后续串联直接相关。镀膜设备需与P1至P4的激光节奏协同，而非仅关注单层成膜。

RPD在钙钛矿PVD中处于什么位置？

RPD是PVD三种工艺之一，原为日本住友的独家技术，现已授权给捷佳。前两种PVD工艺较为成熟，RPD相对新颖，设备选型时可作为工艺路线之一纳入考量。