钙钛矿组件除钙钛矿层外几乎全部膜层均需PVD设备镀膜，因此下游中试线及量产线扩产将直接拉动PVD设备需求，且随玻璃尺寸从中小试向大面积量产演进，设备数量与价值量有望同步提升。在钙钛矿电池制备中，从玻璃基底到两个传输层再到电极，均涉及PVD工艺，PVD（含RPD）设备价值量约占全产业链设备总价值的40%，是价值量最高的环节。

镀膜环节拆解：为何PVD需求贯穿全程

钙钛矿组件的制备流程中，PVD设备的使用覆盖多个关键环节。资料明确指出，“除了钙钛矿层外，钙钛矿的别的部分都会涉及到PVD设备”。具体来看：

  • 玻璃基底：通常外采，若自产则需PECVD及PVD等气相沉积设备
  • 传输层：空穴传输层与电子传输层均需镀膜
  • 电极：背电极与透明电极的制备依赖PVD工艺

值得注意的是，钙钛矿路线与晶硅路线在PVD设备形态上存在显著差异。晶硅薄片化趋势下更适合水平式（卧式）设备，而钙钛矿在玻璃上镀膜，若玻璃尺寸增大，卧式设备易致玻璃自然形变，因此钙钛矿路线更倾向采用立式设备，可自下而上镀膜。

尺寸演进与设备集成：量产线的需求结构变化

随着钙钛矿从实验室小尺寸向大面积量产演进，PVD设备的需求结构将发生两方面变化：

设备数量提升：以激光设备为例，资料显示原先一条产线只需1台设备，现阶段需要4台，单线价值量随之提升。PVD设备在大面积镀膜中同样面临类似的需求增长逻辑。

设备集成化趋势：量产线对设备效率与良率要求更高，推动设备形态创新。晟成光伏已申请“一种集成RPD和PVD的镀膜设备”专利，捷佳伟创的立式反应式等离子体镀膜设备（RPD）已通过厂内验收并填补国产设备空白，这些集成化、立式化设备更适合量产线的大面积镀膜需求。

从供应商格局看，PVD设备领域已有捷佳伟创（RPD）、京山轻机旗下晟成光伏（蒸镀PVD）、湖南红太阳（溅射镀PVD及ALD）等企业完成出货，国产设备供给能力正在逐步完善。

常见问题

钙钛矿组件中哪些环节不需要PVD设备？

只有钙钛矿活性层本身不依赖PVD设备，该层通常采用狭缝涂布工艺制备。除钙钛矿层外的玻璃基底处理、两个传输层以及电极制备均涉及PVD设备。

PVD设备在钙钛矿与晶硅路线中有何不同？

晶硅路线更适合卧式（水平式）设备，因为硅片薄片化后立式工艺难以固定；而钙钛矿在玻璃上镀膜，大面积玻璃在卧式设备中易发生形变，因此钙钛矿路线未来更可能采用立式设备。

下游扩产对PVD设备需求的具体拉动路径是什么？

拉动路径体现在两方面：一是产线数量增加直接带动PVD设备采购量；二是钙钛矿组件从中试向大面积量产演进，对镀膜均匀性与效率要求提升，单线所需设备数量及单台价值量均有提升空间，同时RPD与PVD集成设备等新型设备形态有望在量产线中获得更多应用。