在钙钛矿电池制造中，PVD 设备的需求覆盖范围远超单一功能层——从玻璃基底到两个传输层，再到电极，除钙钛矿层本身外，其余部分几乎都会涉及 PVD 设备。这也是 PVD（含 RPD）在钙钛矿设备价值量中占比最高的原因，按金额口径约占 40%。玻璃若由企业自行制备，还需搭配 PECVD 与 PVD；后续的传输层与电极环节同样依赖镀膜工艺。随着组件尺寸放大，镀膜均匀性与基片固定方式的要求同步提升，钙钛矿路线因此更倾向立式设备。
PVD 在钙钛矿各膜层的对应环节
钙钛矿电池的镀膜需求可按膜层拆解：
| 膜层环节 | 是否涉及 PVD | 说明 |
|---|---|---|
| 玻璃基底 | 涉及（自做时） | 若外采则不在本环节；自做需气相沉积法设备，典型为 PECVD 与 PVD |
| 钙钛矿层 | 不涉及 | 由涂布等工艺完成，非 PVD 环节 |
| 两个传输层 | 涉及 | 传输层镀膜使用 PVD |
| 电极 | 涉及 | 电极制备同样使用 PVD |
换言之，钙钛矿电池中除钙钛矿层外的所有部分，都会涉及到 PVD 设备。这种“多环节使用”的特性，是 PVD 价值量居高的直接原因。
组件尺寸放大对设备形态的要求
PVD 只是一种镀膜原理，晶硅与钙钛矿路线在设备形态上侧重不同。晶硅因硅片薄片化趋势，更适合水平式（卧式）设备，便于薄片固定；而钙钛矿是在玻璃上镀膜，当玻璃尺寸变大后，放入水平式设备容易发生自然形变，立式设备可自下而上镀膜，更适应大尺寸玻璃的加工需求。目前钙钛矿仍以小尺寸为主，立式设备的布局更多是为未来尺寸放大做技术储备。
常见问题
钙钛矿电池中哪些膜层不需要 PVD 设备？
钙钛矿层本身不使用 PVD，而是通过涂布等溶液法成膜。除钙钛矿层外，玻璃（自做时）、两个传输层以及电极环节都会用到 PVD 设备。
为什么钙钛矿路线更倾向立式 PVD 设备？
钙钛矿是在玻璃上镀膜，玻璃尺寸放大后若采用水平放置，容易发生自然形变；立式设备可自下而上完成镀膜，更适配大尺寸玻璃的加工。晶硅则因薄片化更适合卧式设备。
目前有哪些厂商在钙钛矿用镀膜设备上有出货进展？
资料提及的国产厂商包括捷佳伟创（RPD）、京山轻机旗下晟成光伏（蒸镀 PVD）、湖南红太阳（溅射镀 PVD 及 ALD）等，具体出货信息可参考相关企业公开披露。