钙钛矿PVD设备主要涵盖蒸镀、磁控溅射镀与RPD三种工艺,其中RPD原为日本住友的独家技术,现已授权给捷佳伟创。这一授权使捷佳伟创在钙钛矿传输层镀膜环节获得了明确的工艺卡位,设备端由此形成住友作为技术源头、捷佳伟创持有授权、其他PVD厂商沿蒸镀与磁控溅射路线布局的多方格局。
RPD授权的意义:从独家到授权
从工艺原理看,三种PVD路线同属物理气相沉积技术。其中蒸镀与磁控溅射镀相对成熟,RPD则相对新颖。RPD此前由日本住友独家掌握,授权捷佳伟创后,后者在钙钛矿设备上的布局常被概括为“具备钙钛矿设备布局”,指的正是这项RPD技术。对设备端而言,这意味着原本封闭的工艺环节出现了可获取的技术入口。
三种工艺路线与设备商定位
不同PVD工艺对应不同功能层与沉积需求,设备商的卡位也各有侧重:
| 工艺路线 | 技术成熟度 | 格局特征 |
|---|---|---|
| 蒸镀 | 相对成熟 | 多家PVD厂商可参与 |
| 磁控溅射镀 | 相对成熟 | 多家PVD厂商可参与 |
| RPD | 相对新颖 | 原住友独家,现授权捷佳伟创 |
住友处在RPD技术源头位置;捷佳伟创通过授权获得该路线的设备卡位;其他PVD厂商则更多沿蒸镀、磁控溅射等成熟路线切入。需要说明的是,PVD设备并非钙钛矿专属,在面板行业已有长期应用,因此不少钙钛矿PVD厂商原本就是面板设备供应商,工艺迁移是其进入这一赛道的基础。
设备端的竞争要点
钙钛矿PVD设备用于传输层,同时TCO玻璃与电极层的制备也会用到PVD技术。就行业整体而言,设备本身并非专为钙钛矿开发的新设备,多是在其他行业成熟设备基础上针对钙钛矿做优化。因此设备端的差异,更多体现在对具体工艺的理解与驾驭能力上,而非单纯的设备制造。谁更贴近量产工艺,谁就更可能在设备选型中占据位置。
常见问题
RPD技术授权捷佳伟创后,住友还是竞争者吗?
住友仍是RPD技术的源头方,其独家地位因授权而发生变化。授权之后,捷佳伟创成为该路线的设备供应方之一,二者在技术来源与设备供应上处于不同位置。
钙钛矿PVD设备只有RPD一种路线吗?
不是。PVD工艺主要有蒸镀、磁控溅射镀和RPD三种,前两者相对成熟,RPD相对新颖。不同路线对应不同沉积需求,设备商可依据自身技术积累选择切入方向。
其他PVD厂商在钙钛矿领域如何布局?
多数其他PVD厂商沿蒸镀、磁控溅射等成熟路线参与,并依托面板行业积累的设备经验向钙钛矿迁移。设备端的竞争重心,最终落在对钙钛矿成膜工艺的理解与优化能力上。