钙钛矿PVD设备主要分为蒸镀、磁控溅射镀与RPD三类，三者同属物理气相沉积（PVD）技术，但成熟度与供给格局不同：蒸镀与磁控溅射镀工艺相对成熟，RPD原为日本住友独家技术，现已授权给捷佳伟创，这也是捷佳伟创对外表述其钙钛矿设备布局时所指的核心环节。就盈利模式而言，RPD的授权属性决定了其收益更可能来自设备销售与授权安排相结合的结构，而非单纯的整机差价；三类工艺在设备成本、维护费用与良率上的差异，则需结合具体产线验证，目前尚无公开的统一口径。

三类PVD工艺的定位差异

从工艺原理看，蒸镀、磁控溅射镀、RPD都归属于PVD范畴，本质都是镀膜，区别主要在于用在钙钛矿电池的哪一层。资料显示，PVD设备主要用于传输层，同时在制作TCO玻璃与电极层时也会用到PVD技术。

其中，前两类工艺较为成熟，产业化经验相对充分；RPD则相对新颖，原为日本住友的独家技术，后授权给捷佳伟创。这一授权关系，是理解其盈利模式构建的起点。

成本结构与付费模式怎么看

三类工艺在设备成本、维护费用与良率上的具体差异，目前没有公开的统一数据，需要以各厂商实际产线验证为准。可以明确的是：

  • 蒸镀与磁控溅射镀因成熟度较高，供应链与工艺经验相对充分；
  • RPD的独特性来自技术来源，其定价与分成安排会更多受到授权条款影响；
  • 无论哪一类，PVD设备的价值最终取决于镀膜质量与工艺适配能力。

对捷佳伟创而言，在授权模式下，盈利模式的构建通常涉及设备定价、授权费分成等环节，具体比例与安排属于商业条款，官方尚未公布，需以公司后续披露为准。

设备之外，难点在工艺

需要强调的是，涂布、PVD、激光这几类设备并非钙钛矿专属，在面板等行业已有较多应用，只是针对钙钛矿做了优化。因此行业难点并不完全在设备本身，而更多在于工艺，即驾驭设备所积累的know-how。这也意味着，设备商的长期竞争力，取决于能否与客户在工艺端形成深度绑定。

常见问题

RPD与蒸镀、磁控溅射镀的主要区别是什么？

三者同属PVD物理气相沉积技术，都用于镀膜。区别在于成熟度与技术来源：蒸镀和磁控溅射镀工艺较为成熟，RPD相对新颖，原为日本住友独家技术，现已授权给捷佳伟创。

捷佳伟创的RPD授权会如何影响其盈利模式？

授权意味着收益结构可能包含设备销售与授权相关安排两部分，而非单纯整机销售。具体定价策略与授权费分成比例属于商业条款，官方尚未公布，需以公司后续披露及第三方验证为准。

三类PVD工艺的成本差异明显吗？

设备成本、维护费用与良率的差异需要结合具体产线与工艺验证，目前没有公开的统一口径。可以判断的是，成熟工艺在供应链经验上更充分，而RPD的独特性主要来自其技术授权属性。