在钙钛矿PVD设备的三种工艺路线中，RPD（反应等离子体沉积）原本是日本住友的独家技术，现已授权给捷佳伟创，捷佳伟创对外介绍的钙钛矿设备布局指的正是这一路线。该路线市场增长的核心驱动力，来自钙钛矿产业化对传输层镀膜设备的需求释放、RPD技术授权带来的国产设备供给通道打开，以及设备国产化替代的长期趋势，而RPD在致密层制备上的工艺特点，使其在三种PVD工艺中具备差异化定位。

三种PVD工艺中，RPD的定位是什么

钙钛矿PVD设备从工艺上主要分为三种，原理都属于物理气相沉积（PVD）。其中前两种工艺相对成熟，第三种即RPD，原为日本住友的独家技术，现授权给捷佳伟创。因此，当捷佳伟创提及自身钙钛矿设备布局时，所指的正是RPD这一路线。

PVD设备在钙钛矿电池中主要用于传输层制备，同时也应用于TCO玻璃与电极层环节。与涂布、印刷设备类似，这类镀膜设备并非钙钛矿专属，而是从面板行业TFT制程迁移优化而来，与面板设备的技术关联度较高。

市场增长的主要驱动力

第一，钙钛矿产业化推进带来的设备需求。 钙钛矿被视作大型技术变革，设备厂往往先于电池厂享受到第一波红利，电池厂大多要等产业链成熟后才出现投资机会。传输层作为钙钛矿膜层的组成部分，其镀膜设备需求随产业化进程同步释放。

第二，技术授权改变了供给格局。 RPD由住友独家持有转为授权捷佳伟创，意味着这一原本封闭的工艺路线有了国产设备供给通道，为下游客户在PVD工艺选择上提供了新的可能。

第三，设备国产化替代的长期逻辑。 钙钛矿设备整体并非全新品类，涂布、PVD与面板行业关联度高，激光设备相对通用，行业难点更多在工艺know-how而非设备本身。在这一背景下，能够掌握核心工艺并实现国产供给的设备商，更容易在产业链前夜占据位置。

常见问题

RPD在钙钛矿PVD三种工艺中处于什么位置？

钙钛矿PVD设备主要有三种工艺，原理均为物理气相沉积。前两种较为成熟，RPD是其中相对新颖的一种，原为日本住友独家技术，现授权给捷佳伟创。

为什么说捷佳伟创的钙钛矿设备布局指的是RPD？

捷佳伟创对外介绍钙钛矿设备布局时，所指的正是RPD这一路线。这与RPD技术授权给捷佳伟创的事实相对应，也是其在该环节的设备切入点。

RPD路线的市场增长主要看什么？

主要看钙钛矿产业化的推进节奏、RPD授权后国产设备供给的落地情况，以及下游在传输层镀膜工艺上的路线选择。设备国产化替代的整体趋势，也是这一路线需求增长的重要背景。