在钙钛矿PVD设备的三种工艺路线中，RPD（反应等离子体沉积）原本是日本住友的独家技术，现已授权给捷佳伟创，这条路线当前的竞争壁垒主要来自靶材配方、工艺参数窗口与专利授权限制三方面。也正因如此，捷佳伟创常提到的钙钛矿设备布局，指的就是这项RPD技术。需要说明的是，钙钛矿设备的难点更多不在设备本身，而在于驾驭设备的工艺经验（KNOW-HOW）。

三种PVD工艺与RPD的位置

钙钛矿PVD设备从工艺上主要分三种，原理都是物理气相沉积（PVD）。其中前两种工艺较为成熟，RPD相对新颖，原是日本住友的独家技术，现在授权给了捷佳伟创。PVD设备主要用于传输层，同时在制作TCO玻璃和电极层时也会用到。

RPD的技术壁垒从哪里来

靶材配方：RPD属于镀膜工艺，靶材是成膜的关键耗材，配方直接关系成膜质量，属于长期积累的工艺经验。

工艺参数窗口：钙钛矿各功能层对成膜精度与质量要求不同，工艺窗口的摸索依赖大量实验积累，这也是行业公认的难点所在。

专利授权限制：RPD原为住友独家，授权格局本身构成准入门槛——能否获得授权，直接决定设备厂商能否切入这条路线。

捷佳获授权后的卡位意义

捷佳伟创获得住友授权后，成为具备RPD路线的设备厂商。由于钙钛矿设备与面板行业TFT制程高度相通，涂布与PVD设备领域能看到不少原面板设备公司的身影，捷佳在钙钛矿设备布局上的这一卡位，使其在传输层镀膜环节具备了较具代表性的技术储备。

常见问题

RPD技术为什么被视为钙钛矿设备的技术壁垒？

RPD原是日本住友的独家技术，现授权给捷佳伟创，其壁垒体现在靶材配方、工艺参数窗口与专利授权限制三方面。授权格局本身限制了可进入的厂商范围，而工艺经验的积累难以短期复制。

捷佳伟创的钙钛矿设备布局指的是什么？

捷佳伟创常提到的钙钛矿设备布局，指的就是RPD技术。该技术属于钙钛矿PVD三种工艺中相对新颖的一种，主要用于传输层镀膜。

钙钛矿设备的真正难点在设备还是工艺？

钙钛矿的涂布、PVD、激光等设备并非专属于钙钛矿，在其他行业已有应用，只是针对钙钛矿做了优化。因此行业普遍认为难点不在设备本身，而在于驾驭设备的人所掌握的工艺KNOW-HOW。