钙钛矿RPD设备的技术源头是日本住友的独家技术，目前该技术已授权给捷佳伟创，使其成为国内钙钛矿设备布局中掌握RPD这一关键工艺的代表厂商。在国产化推进过程中，行业竞争格局正从单一技术来源向多元参与演变，而竞争的关键不在于设备本身，而在于对工艺的驾驭能力。
RPD技术来源与国产化路径
RPD（反应等离子体沉积）是PVD物理气相沉积技术中的一种工艺路线。在钙钛矿电池制备中，PVD设备主要用于电子传输层、空穴传输层等功能层的镀膜，同时也应用于TCO玻璃和电极层的制作。PVD工艺主要分为三种，其中蒸镀和磁控溅射镀较为成熟，而RPD原为日本住友的独家技术，现已授权给捷佳伟创——这也是捷佳伟创宣称拥有钙钛矿设备布局的核心所指。
这一授权模式对国产化的意义在于：国内设备商得以绕开技术源头壁垒，直接获得成熟工艺的使用权，在此基础上针对钙钛矿产线进行适配与优化。从行业整体看，RPD技术从独家垄断走向授权引入，本身就是国产化进程的实质性一步。
竞争格局演变：面板跨界者与设备商的同台竞争
钙钛矿设备与面板行业TFT制程高度相关，因此涂布和PVD两类设备上能看到大量此前为面板行业提供设备的公司跨界进入。这些来自面板领域的设备商在真空镀膜、精密控制等方面积累深厚，是钙钛矿PVD/RPD赛道不可忽视的参与者。
与此同时，以捷佳伟创为代表的设备商凭借RPD授权获得差异化卡位。不过，行业共识在于：钙钛矿设备的难点并非设备制造本身，而是工艺know-how——即驾驭设备的人比设备本身更具壁垒。因此，无论是掌握RPD授权的设备商，还是从面板行业跨界而来的竞争者，最终的竞争焦点都落在对钙钛矿工艺的理解与量产经验上。
常见问题
RPD技术与普通PVD有何区别？
RPD是PVD物理气相沉积技术中的一种工艺路线，与前两种较为成熟的工艺（蒸镀、磁控溅射镀）相比相对新颖。其核心区别在于沉积原理和成膜质量，RPD原为日本住友独家技术，现已授权给捷佳伟创。
哪些企业可能参与钙钛矿RPD设备竞争？
除获得RPD技术授权的捷佳伟创外，由于钙钛矿设备与面板TFT制程高度关联，大量此前服务面板行业的设备商也具备跨界进入的实力。竞争格局正从单一技术来源向多元参与演变。
设备商的核心壁垒在哪里？
行业普遍认为，钙钛矿设备本身并非全新品类，涂布、PVD、激光等设备在其他行业已有应用，真正的难点在于工艺——即如何针对钙钛矿材料特性优化设备参数和制程，这部分know-how掌握在设备使用者手中。