去胶设备国产化率已超90%，这个赛道还有增长空间吗？
去胶设备国产化率超过90%，意味着该赛道的国产替代空间已基本饱和，成长性相对较弱。 与刻蚀、薄膜沉积等国产化率仍在20%左右的设备赛道相比，去胶设备已从“国产替代”驱动转向以存量更新和晶圆厂扩产周期为主的增长模式，未来的增量更多依赖于先进制程对去胶工艺的新需求，以及国内龙头企业的海外市场拓展。
去胶设备与其他半导体设备赛道的对比
根据半导体设备国产化率数据，去胶设备是国产化率最高的品类之一，而其他主要赛道仍处于国产替代的快速爬坡期。
| 设备类型 | 国产化率 | 主要国内厂商 |
|---|---|---|
| 去胶设备 | 90%以上 | 屹唐股份 |
| 清洗设备 | 20%左右 | 盛美股份、北方华创 |
| 刻蚀设备 | 20%左右 | 中微公司、北方华创、屹唐股份 |
| 热处理设备 | 20%左右 | 屹唐股份、北方华创 |
| PVD 设备 | 10%左右 | 北方华创 |
| CMP 设备 | 10%左右 | 华海清科 |
| 涂胶显影设备 | 零的突破 | 芯源微 |
| 光刻设备 | 预计将有零的突破 | 上海微电子 |
去胶设备国产化率已超90%，成长性肯定就比较弱了；而像光刻机这种从0到1的，不确定性还是挺大的。 相比之下，刻蚀设备和薄膜沉积设备市场空间大、国产化率低，更符合“长坡厚雪”的标准，更适合作为长期关注方向。
未来可能的增量来源
尽管国产替代空间有限，但去胶设备赛道并非毫无增长点。一方面，随着半导体技术迭代放缓，先进制程（如更小线宽）对去胶工艺的精度和均匀性要求更高，可能带来设备升级需求。另一方面，国内龙头企业如屹唐股份在去胶设备领域已占据主导地位，其未来增长可能来自海外市场的拓展，以及向其他半导体设备品类的横向延伸（如刻蚀、热处理设备）。
常见问题
去胶设备国产化率超过90%后，市场是否已经见顶？
并未完全见顶，但增长驱动力已切换。 国产替代空间基本饱和后，市场主要受晶圆厂扩产周期和存量设备更新换代驱动。此外，先进制程对去胶工艺的更高要求，也可能催生新的设备需求。
屹唐股份在去胶设备领域的地位如何？
屹唐股份是国内去胶设备的主要供应商，在该赛道国产化率超过90%的进程中扮演了核心角色。 其业务也覆盖刻蚀和热处理设备，具备向多品类拓展的潜力。
去胶设备与刻蚀、薄膜沉积设备相比，投资价值如何？
去胶设备的成长性相对较弱。 刻蚀和薄膜沉积设备市场空间更大（分别占晶圆制造设备投资的30%和25%），且国产化率仅20%左右，国产替代逻辑更强，成长天花板更高。