从七类抛光液看,中国在全球半导体材料供应中已进入硅抛光液等品类的第一梯队,但在钴抛光液等先进制程品类上仍被美日企业主导,整体呈现**“局部突破、整体追赶”**的格局。

抛光液是CMP工艺的核心材料,按应用可分为七类:硅抛光液、铜及铜阻挡层抛光液、钨抛光液、钴抛光液、层间介质层抛光液、浅槽隔离层抛光液和3D封装硅通孔抛光液。中国在硅抛光液领域已具备较强竞争力,以安集科技为代表的国产厂商实现了对大陆晶圆厂的高度认可,并成功进入台积电供应链。但在钴抛光液等面向10nm以下先进制程的品类上,技术门槛高,市场仍由卡博特微电子等美日企业主导。

中国在七类抛光液中的竞争位置

品类中国竞争地位关键厂商
硅抛光液全球前三安集科技
铜及铜阻挡层抛光液已量产,持续拓展安集科技
钨抛光液已量产,存储芯片大量使用安集科技
钴抛光液仍由美日企业主导安集科技在研发
层间介质层抛光液已量产安集科技
浅槽隔离层抛光液已量产安集科技
3D封装硅通孔抛光液已量产或研发中安集科技

安集科技是国内抛光液领域的龙头企业,定位“全产品解决方案”,其产品覆盖七类抛光液中的多数品类,并已进入台积电等国际客户供应链。但磨粒等核心原材料仍主要依赖日本厂商,国产化正在推进中。

常见问题

中国在抛光液领域与美日差距最大的品类是什么?

钴抛光液是差距最大的品类。该品类用于10nm节点以下芯片的钴去除和平坦化,技术壁垒高,目前市场仍由卡博特微电子等美日企业垄断,国产厂商尚处于研发论证阶段。

安集科技在全球抛光液市场的份额如何?

安集科技是国内抛光液龙头,产品已获得大陆晶圆厂高度认可,并成为台积电供应商。但全球抛光液市场仍由美企主导,卡博特微电子等占据主要份额,安集科技的全球份额相对较小,正通过技术积累和客户拓展逐步提升。

中国在抛光液上游原材料方面是否自主可控?

尚未完全自主可控。磨粒是抛光液最核心的原料,占原材料成本的50%-70%,目前核心技术仍被海外巨头垄断。安集科技等国内厂商的磨粒主要采购自日本,同时也在建设材料基地,致力于高端磨粒和电子级添加剂的自产化。

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