晶硅与钙钛矿路线分化，PVD设备竞争格局中谁在主导不同细分市场？

晶硅与钙钛矿路线对PVD设备的需求分化，直接塑造了竞争格局：晶硅领域由水平式（卧式）PVD设备的既有龙头主导，而钙钛矿赛道则因立式设备的差异化需求，为新进入者打开了突围窗口。这种分化源于两种技术路线对镀膜基材的物理特性要求不同，并决定了技术迁移的壁垒与客户验证的周期。

路线分化：水平式与立式的技术分野

晶硅路线更倾向于使用水平式（卧式）PVD设备。其核心原因在于硅片的薄片化趋势——采用立式工艺时，太薄的硅片难以固定，水平放置镀膜更具优势。因此，深耕晶硅领域的设备厂商，其产品线大体以水平式设备为主，并已形成稳固的客户验证壁垒。

钙钛矿路线则更可能走向立式PVD设备。钙钛矿是在玻璃上镀膜，若玻璃尺寸变大，放入水平式设备中容易发生自然形变，而采用立式设备可以自下而上镀膜，有效规避这一问题。这一差异意味着，晶硅领域的水平式设备经验无法直接平移到钙钛矿的立式需求上，构成了技术迁移的天然壁垒。

在晶硅PVD领域，竞争格局相对成熟，主导者多为伴随晶硅产业成长起来的传统光伏设备厂商，其优势在于对水平式工艺的深厚积累和已完成的产线验证。

在钙钛矿PVD领域，竞争格局尚未固化，已公告有钙钛矿用镀膜设备的主要供应商中，国产厂商已占据重要位置。根据公开信息，各厂商在技术路线上各有侧重：

值得注意的是，捷佳伟创已完成了立式反应式等离子体镀膜设备（RPD）的量产线出货，该设备通过厂内验收并填补了国产空白。京山轻机则通过旗下晟成光伏完成了蒸镀PVD（卧式&立式）的出货。这些进展表明，钙钛矿立式设备领域已有实质性突破，而新进入者凭借差异化技术路线，有机会建立新的竞争位置。

不能简单平移。晶硅以水平式设备为主，钙钛矿未来更可能用立式设备，两种技术路线的工艺逻辑和结构设计差异显著。不过，PVD本身是一种通用原理，具备镀膜技术积累的厂商在底层工艺上仍有共通之处，关键在于能否攻克立式设备的新需求。

钙钛矿电池仍处于产业化早期，设备从出货到产线验证需要较长时间。从已公告信息看，各厂商的设备多处于已出货或已交付验收阶段，但大规模量产验证仍在推进中。客户验证周期是塑造竞争版图的关键变量，率先完成量产验证的厂商有望建立先发优势。

按全产业链价值量划分，PVD（含RPD）约占40%，涂布设备约占20%，激光设备约占10%。其中涂布设备以狭缝涂布为主流，技术领先者已开发出全球首套用于大面积钙钛矿的涂布机；激光设备则分化为专做激光的企业和传统光伏设备厂商两大阵营。