在溅射PVD这一细分赛道，全球格局高度集中：应用材料占据约85%份额，东京电子约占15%，两者几乎覆盖全部市场。中国厂商中，北方华创在溅射PVD领域优势突出，在国产采购中的占比可达约20%，是这一环节国产替代的主力。整体来看，中国在半导体设备全球格局中仍处于追赶位置，但在溅射PVD等单点环节已实现从无到有的突破。

全球格局：巨头主导，细分赛道高度集中

薄膜沉积设备是半导体制造三大核心设备之一，主要包括CVD、PVD、ALD和外延四大类方法，其中PVD又分为溅射PVD和蒸镀PVD。各细分赛道均由国际巨头主导：CVD领域应用材料占28%、泛林半导体占25%、先晶半导体占17%、东京电子占11%；ALD领域东京电子占45%、应用材料占29%、泛林半导体占26%。而在溅射PVD领域，应用材料以约85%的份额形成绝对主导，东京电子约占15%，格局最为集中。

中国位置：溅射PVD单点突破

国内薄膜沉积设备的国产替代进度，可从主流晶圆厂中标数据中观察。综合长江存储、华虹无锡、华力集成等产线的中标情况，北方华创在溅射PVD细分设备中的占比可达约20%，在国产设备中表现突出；CVD类设备国产供应商主要是拓荆科技，总占比约2-3%；华虹无锡、华力集成等产线的薄膜设备国产化率总体在10%左右。

从产品能力看，北方华创已推出多款PVD产品，覆盖90-14nm多个制程工艺；拓荆科技则覆盖PECVD和ALD，是国内唯一实现PECVD设备产业化的厂商，PEALD设备在国内处于领先地位，可应用于14nm及以下逻辑芯片。

追赶路径：从单点突破到品类覆盖

薄膜沉积设备市场构成分散，占比最大的PECVD份额为33%，溅射PVD为19%，ALD为11%。要在这一市场立足，考验的是厂商对薄膜材料覆盖的广度和深度。中国厂商目前的路径清晰：以北方华创在溅射PVD的优势为支点，以拓荆科技在PECVD、ALD的布局为延伸，逐步从单点突破走向多品类覆盖。需要说明的是，上述国产化率数据来自历史中标统计，反映的是特定时期的采购情况，后续进展需以公开招标及厂商披露为准。

常见问题

溅射PVD的全球市场份额是如何分布的？

溅射PVD是PVD的两大技术路线之一。在全球竞争格局中，应用材料占据约85%份额，东京电子约占15%，两者合计几乎覆盖全部市场，是薄膜沉积设备中集中度最高的细分赛道。

中国厂商在溅射PVD领域处于什么位置？

北方华创是国产溅射PVD的代表厂商，在国产采购中的占比可达约20%，已推出覆盖90-14nm多个制程工艺的PVD产品。从全球视角看，中国厂商仍处于追赶阶段，但在这一单点环节已实现产业化突破。

薄膜沉积设备国产替代的整体进度如何？

各细分品类进度不一。溅射PVD国产化率相对领先，可达约20%；CVD类设备国产供应商占比约2-3%；部分产线薄膜设备国产化率总体在10%左右。整体仍以国际巨头主导，国产替代处于持续推进过程中。