溅射PVD的国产化率能否加速提升，取决于政策资金、验证通道与设备厂商技术成熟度的共同作用。从产业基金看，国家集成电路产业投资基金已是拓荆科技第一大股东，持股19.86%，显示政策资金对薄膜沉积环节的介入已相当深入；从市场格局看，溅射PVD在薄膜沉积设备中占比19%，而应用材料在这一细分赛道占比约85%。国产方面，北方华创在溅射PVD领域布局较深，据长江存储设备中标数据测算，其在该细分设备的国产占比可达20%左右。国产化率进一步提升的方向明确，但节奏仍取决于验证机制的完善程度。

政策资金与产业验证的双重推动

薄膜沉积设备市场各细分赛道长期由应用材料、东京电子等国际厂商主导。在PVD赛道，应用材料占比约85%，东京电子约15%，集中度极高。这一格局意味着国产替代的每一步都需要经过严格的工艺验证。

政策资金的介入为此提供了支撑。国家集成电路产业投资基金持有拓荆科技19.86%股份，为第一大股东；中微公司同样持股8.40%。资金投向集中于薄膜沉积这一核心环节，反映出产业政策对设备短板的针对性布局。

在需求侧，制程升级与结构3D化持续拉动设备需求。90nm CMOS工艺的薄膜沉积工序约40道，3nm FinFET工艺产线增至约100道；3D NAND产线中薄膜沉积占资本开支比重由2D时期的18%升至26%。

国产厂商的技术卡位

溅射PVD是北方华创的优势方向。其官网介绍已推出13款PVD产品，覆盖90-14nm多个制程工艺，可用于集成电路和功率半导体等领域。据长江存储中标数据，北方华创在溅射PVD细分设备的国产占比可达20%左右。

拓荆科技则聚焦PECVD与ALD，是PECVD领域实现产业化的国产厂商，产品覆盖180-14nm逻辑芯片及64、128层3D NAND，PEALD设备可应用于14nm及以下逻辑芯片。两家公司在ALD领域均有布局。

常见问题

溅射PVD国产化率目前处于什么水平？

据长江存储设备中标数据测算，北方华创在溅射PVD细分设备的国产占比可达20%左右。不同晶圆厂的国产化率存在差异，华虹无锡、华力集成的薄膜设备整体国产化率约在10%左右。

大基金入股对PVD国产化有何意义？

国家集成电路产业投资基金持有拓荆科技19.86%股份，为第一大股东，表明政策资金已深度介入薄膜沉积设备领域。资金支持有助于厂商持续投入研发与产线验证，但国产化率的提升最终仍取决于产品通过晶圆厂验证的进度。

国产溅射PVD与海外厂商的差距在哪？

应用材料在PVD赛道占比约85%，市场地位稳固。国产厂商已在90-14nm多个制程实现覆盖，但先进制程的验证与批量导入仍需时间积累，具体进展建议以厂商公开披露及第三方实测为准。