在长江存储的薄膜沉积设备招标中，北方华创在溅射PVD细分领域的占比约20%，沈阳拓荆在CVD类设备的整体占比约2-3%；而从华虹无锡、华力集成等产线的中标数据看，薄膜沉积设备的国产化率总体约在10%左右。这组数字说明，薄膜沉积的国产替代并非齐头并进，而是呈现出明显的结构性差异——溅射PVD走得最快，CVD类仍在爬坡，PECVD则由拓荆科技率先实现产业化突破。

结构性差异：PVD领先，CVD仍在爬坡

薄膜沉积主要分为CVD、PVD、ALD和外延四大类方法，各细分赛道长期由应用材料、东京电子等国际巨头主导。国产厂商的切入路径也因此分化。

北方华创的优势集中在溅射PVD方向。根据其官网介绍，公司已推出多款PVD产品，可应用于集成电路和功率半导体等领域，覆盖90-14nm多个制程工艺节点。在长江存储的招标中，其溅射PVD占比达到约20%，明显高于CVD类设备的国产份额。

CVD类设备的国产供应商则主要是沈阳拓荆。从长江存储的中标数据看，其在CVD类的整体占比约为2-3%。不过，不同产线的国产化程度并不一致：华虹无锡的薄膜设备国产化率中，北方华创约7%、沈阳拓荆约11%；华力集成中，沈阳拓荆约5%、北方华创约10%。总体来看，薄膜沉积设备的国产化率约在10%左右，高于长江存储单一产线的水平。

拓荆科技：PECVD产业化的先行者

在CVD类设备中，PECVD是市场规模最大的细分品类。按招股说明书披露，拓荆科技是国内唯一一家实现了PECVD设备产业化的厂商，产品工艺已覆盖180-14nm制程的逻辑芯片以及64层和128层的3D NAND，并能兼容氧化硅、氮化硅等多种薄膜材料。

在更先进的ALD方向，拓荆科技的PEALD设备在国内处于领先地位，产品可广泛应用于14nm及以下的逻辑芯片。相比之下，北方华创在PVD、CVD和ALD三大方向均有布局，但其ALD产品目前技术节点覆盖至28nm，两家公司的侧重点并不相同。

常见问题

薄膜沉积设备的国产化率目前大概是多少？

从华虹无锡、华力集成等产线的中标数据看，薄膜沉积设备的国产化率总体约在10%左右。但不同产线、不同细分品类的差异较大，长江存储CVD类设备的国产占比约2-3%，而溅射PVD的国产占比可达约20%。

拓荆科技在国产薄膜沉积设备中处于什么位置？

按招股说明书披露，拓荆科技是国内唯一实现PECVD设备产业化的厂商，主要产品覆盖PECVD、ALD和SACVD。其PEALD设备在国内处于领先地位，可应用于14nm及以下逻辑芯片。

北方华创和拓荆科技在薄膜沉积领域是竞争关系吗？

两者重合度并不高。北方华创的优势在溅射PVD，CVD产品以LPCVD和APCVD为主，PECVD主要用于LED和光伏等泛半导体领域；拓荆科技则聚焦集成电路领域的PECVD和ALD。两家公司在ALD方向均有布局，但技术节点覆盖有所不同。