全球薄膜沉积设备市场由应用材料、东京电子等国际厂商主导，中国厂商目前处于局部突破、整体追赶的位置。具体来看，薄膜沉积设备全球市场规模从125亿美元增至172亿美元；细分格局中，PVD领域应用材料约占85%，ALD领域东京电子约占45%，CVD则由多家厂商分食。中国厂商已在溅射PVD等环节取得局部进展——以长江存储中标数据为例，北方华创在溅射PVD的占比可达20%左右，而CVD类设备的国产供应商主要是沈阳拓荆，占比约2-3%。国内CVD与PVD市场需求合计约200亿元，替代空间明确，但整体份额仍有限。
全球格局：细分赛道由国际巨头主导
薄膜沉积设备覆盖CVD、PVD、ALD和外延四大类方法，各细分赛道格局高度集中。PVD环节应用材料占据约85%的份额；ALD环节东京电子约占45%；CVD环节则由应用材料、泛林半导体、先晶半导体、东京电子等多家厂商分食。市场构成本身也较分散，占比最大的PECVD份额为33%，这意味着厂商的竞争力更多取决于对薄膜材料覆盖的广度与深度，而非单一品类。
中国厂商的位置：局部突破，整体追赶
从长江存储的薄膜沉积设备中标数据看，国产替代呈现明显的结构性差异：
| 细分环节 | 主要国产厂商 | 中标占比（长江存储口径） |
|---|---|---|
| 溅射PVD | 北方华创 | 约20% |
| CVD类 | 沈阳拓荆 | 约2-3% |
北方华创在溅射PVD这一细分领域占比较高，其PVD产品已覆盖90-14nm多个制程工艺；拓荆科技则是国内实现了PECVD设备产业化的厂商，产品工艺覆盖180-14nm逻辑芯片及64层、128层3D NAND。两家公司在ALD领域均有布局。此外，华虹无锡、华力集成的薄膜沉积设备国产化率总体在10%左右。综合来看，中国厂商在个别细分环节已具备一定竞争力，但整体仍处于追赶阶段。
常见问题
中国半导体设备厂商在全球薄膜沉积格局中处于什么位置？
整体处于局部突破、整体追赶的位置。在溅射PVD等细分环节，以北方华创为代表的国产厂商已取得约20%的局部中标占比；但在CVD等环节，国产供应商占比仅约2-3%，全球市场仍由应用材料、东京电子等国际厂商主导。
薄膜沉积设备国产替代的主要厂商有哪些？
主要是拓荆科技和北方华创。拓荆科技聚焦PECVD与ALD，是国内实现了PECVD设备产业化的厂商；北方华创的优势集中在溅射PVD领域，同时在CVD和ALD方向也有布局。两家公司在ALD领域均有产品布局，技术节点各有覆盖。
国内薄膜沉积设备的市场空间有多大？
按国盛证券的估算，国内对CVD和PVD的市场需求合计在200亿元左右。需求增长的驱动逻辑与刻蚀设备相似：制程进步带来薄膜沉积工序量增加，芯片3D化后堆叠层数与薄膜工艺直接挂钩，薄膜沉积在产线资本开支中的占比也相应提升。