2019年半导体设备市场低谷期之后,国产替代进程不仅没有放缓,反而在“反周期”逻辑与自主可控需求的双重驱动下加速推进。以2019年全球半导体设备市场规模约570亿美元、同比下滑约12%的低谷为背景,行业景气度下行反而为国产设备厂商创造了难得的窗口期——这正是半导体行业特有的“反周期大法”逻辑,也是研究国产半导体设备产业链价值最大的时点。

低谷期的“反周期”逻辑

半导体行业存在产品周期、产能周期、库存周期三大周期,其中半导体设备市场与产能(资本开支)周期相关性最强。2019年全球半导体设备市场处于明显的低潮期,市场规模约570亿美元,同比下滑约12%。但历史规律表明,行业低潮期恰恰是布局和研究半导体设备的最佳时机——三星“越亏越投”的反周期大法、张汝京“盖厂一定要在行业低潮期”的理念,在二级市场同样适用。

从市场表现看,2019年半导体行业指数跑赢了白酒指数,更远远跑赢医药和锂电等热门板块;阿斯麦和应用材料这两大半导体设备龙头,也在2018年末至2019年初出现阶段性低点后持续拉升,当年涨幅均在90%左右。原因在于:低潮期市场关注度低、流动性溢价消失,股价更偏向合理甚至低估;而市场既能提前反应景气度下行的预期,也会提前反应景气度上行的预期。

国产厂商的突破与瓶颈

国产替代的核心驱动力,来自半导体设备行业“一代工艺,一代设备”的技术迭代特性。每一代制程工艺都有对应的设备,且设备技术门槛随制程迭代不断提高,这要求设备企业具备极强的研发能力,也意味着率先突破者能建立深厚壁垒。

当前全球半导体设备市场高度集中,前五大厂商合计份额超过70%,且基本由美日欧企业垄断,中国大陆厂商在全球头部排名中尚榜上无名,行业整体极度依赖进口。但国内已涌现出一批具备较强竞争力的设备企业,在多个工艺环节取得实质进展:

工艺环节代表企业技术节点覆盖
介质刻蚀中微公司65/45/28/14nm
硅刻蚀北方华创、中微公司中微覆盖至7/5nm
薄膜沉积(PVD/氧化炉/ALD)北方华创覆盖至14/7nm
光刻机上海微90nm
离子注入中科信65/45/28nm

从国产设备替代进程看,国内企业在刻蚀、薄膜沉积、清洗、热处理等环节已形成多点突破的格局,但在光刻等核心环节与国际先进水平仍有差距。

国产替代的核心驱动力

国产替代进程加速的核心驱动力来自两方面。一是半导体行业自身的周期性规律——行业低谷期往往孕育下一轮景气周期的起点,提前布局者将在周期反转时占据先机。二是自主可控的迫切性——在全球半导体设备市场被美日欧企业高度垄断的格局下,国产设备厂商的每一次技术突破,都对应着巨大的替代空间。

正如课程所总结的:刻蚀、薄膜沉积和光刻是三大核心设备,高技术壁垒导致市场高度集中且被海外垄断,而国内涌现的优秀企业已开始向先行者发起挑战。研究半导体设备行业,低谷期恰恰是最好的时机。

常见问题

2019年半导体设备市场低谷期的具体数据是多少?

2019年全球半导体设备市场规模约570亿美元,同比下滑约12%。这是上一轮产能周期景气高点(2018年约640亿美元)后的显著回落,也为后续2020年约28%的增长反弹埋下伏笔。

北方华创和中微公司在国产替代中处于什么位置?

北方华创在硅刻蚀、PVD、氧化炉/LPCVD、ALD、清洗机、热处理等多个环节均有布局,技术节点覆盖至14nm乃至7nm;中微公司在介质刻蚀和硅刻蚀领域覆盖至14nm,其中硅刻蚀已推进至7nm和5nm节点。两家企业是国产半导体设备突破的代表性力量。

低谷期研究半导体设备行业的意义在哪里?

半导体行业具有“反周期”特征,行业低潮期市场关注度低、估值更趋合理,同时春天迟早会到来,市场会提前反应景气度上行的预期。因此低谷期不是回避行业的理由,反而是研究产业链、把握国产替代机遇的最佳窗口。