中国大陆半导体设备市场全球占比近三成,北方华创、中微公司、盛美上海等本土龙头已在刻蚀、薄膜沉积、清洗等关键领域形成突破,成为国产替代进程中的核心力量

市场背景:产业转移与需求爆发

半导体产业正经历第三次全球转移,目的地是中国大陆。2021年,中国大陆半导体设备销售额达296亿美元,全球占比28.9%,已跃居全球第一大市场。与此同时,中国大陆晶圆产能份额从2005年的7%提升至2020年的23%,2021-2022年全球计划新建的29家晶圆厂中,大陆地区占据8家。这种产业转移与极低的设备国产化率形成强烈矛盾,为本土设备企业提供了历史性机遇。

头部企业:产品线与国产化进展

在刻蚀、薄膜沉积等核心设备赛道,国内已涌现出具备竞争力的龙头企业:

设备类型国产化率主要国内厂家
去胶设备90%以上屹唐股份
清洗设备20%左右盛美上海、北方华创
刻蚀设备20%左右中微公司、北方华创、屹唐股份
热处理设备20%左右屹唐股份、北方华创
PVD设备10%左右北方华创
CMP设备10%左右华海清科
涂胶显影设备零的突破芯源微
光刻设备预计将有零的突破上海微电子
  • 北方华创:产品覆盖刻蚀、PVD、热处理、清洗等多个领域,其刻蚀机与PVD设备投入市场后获得下游积极反馈。
  • 中微公司:在刻蚀设备领域技术领先,其CCP刻蚀机已覆盖最先进的5nm制程,并进入台积电供应链。
  • 盛美上海:聚焦清洗设备,是国产清洗领域的主力厂商。

政策与资金加持

国家集成电路产业投资基金(大基金)二期重点投资设备和材料领域,募集资金2041亿元,可撬动社会融资约7000亿元。北方华创、中微公司、盛美上海的前十大股东中均出现大基金身影,资金与产业链协同加速了国产替代进程。

常见问题

国产设备与国际巨头差距有多大?

目前国产设备在去胶领域已基本实现自主,但在刻蚀、薄膜沉积、光刻等核心环节国产化率仍较低(20%左右或以下)。技术迭代放缓为追赶提供了窗口期,中微公司等企业在部分细分领域已不逊色于国际一流厂商。

哪些设备赛道最值得关注?

刻蚀设备(占晶圆制造设备价值约30%)、薄膜沉积设备(约25%)和光刻设备(约23%)是三大核心赛道,市场空间最大。但光刻设备国产化仍处于“零的突破”阶段,不确定性较高。

国产替代进程如何影响投资逻辑?

国产化率较低的领域(如刻蚀、清洗等20%左右)成长性更强;而去胶设备等国产化率已超90%的领域,成长空间相对有限。关注企业市占率与技术节点两个指标,可评估其市场地位与研发能力。

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