在半导体设备全球格局中,中国已连续多年成为全球最大的设备需求市场(2021年全球占比28.9%),但设备自给率仍处低位,整体处于“需求大国、供给追赶”的中间位置。 从国产化率谱系看,中国在去胶设备(90%以上)已具备全球竞争力,在清洗、刻蚀、热处理(20%左右)处于追赶中段,而在光刻、涂胶显影等高端环节仍处于“零的突破”阶段,与美日欧主导的高端设备格局形成鲜明反差。
全球格局:美日欧主导,中国需求崛起
半导体设备行业技术壁垒高,市场份额高度集中,主要由美国、日本、欧洲三地企业主导。与此同时,全球半导体产业正经历第三次产业转移,目的地正是中国大陆。受智能手机普及带动,中国大陆已成为全球最大的半导体消费市场,2018年全球半导体销售额中中国占比达33.8%。相应地,大陆晶圆产能份额从2005年的33%一度降至2015年的14%,随后回升至2020年的23%;2021年大陆半导体设备需求规模达296亿美元,占全球28.9%,稳居全球首位。
国产化率谱系:从去胶到光刻的梯度分布
从设备国产化率谱系可以清晰看到中国在各环节的国际位置差异:
| 设备环节 | 国产化率 | 主要国内厂家 |
|---|---|---|
| 去胶设备 | 90%以上 | 屹唐股份 |
| 清洗设备 | 20%左右 | 盛美股份、北方华创 |
| 刻蚀设备 | 20%左右 | 中微公司、北方华创、屹唐股份 |
| 热处理设备 | 20%左右 | 屹唐股份、北方华创 |
| PVD设备 | 10%左右 | 北方华创 |
| CMP设备 | 10%左右 | 华海清科 |
| 涂胶显影设备 | 零的突破 | 芯源微 |
| 光刻设备 | 预计将有零的突破 | 上海微电子 |
这一谱系显示,中国在去胶设备上已实现高比例自给,具备全球竞争力;清洗、刻蚀、热处理等环节正处于国产替代的中段;而光刻、涂胶显影等核心高端环节仍处于起步突破阶段,与美日欧企业存在明显差距。这种“需求市场全球第一、设备自给率偏低”的反差,正是国产设备企业发展的核心逻辑所在。
追赶的三大驱动力
中国设备企业追赶国际一流水平,主要依托三大历史机遇。产业转移方面,全球半导体产业正第三次向中国大陆转移,2021-2022年全球计划新建的29家晶圆厂中,大陆地区占据8家,带动设备需求持续提升。政策支持方面,国家通过集中研发、政府补助、股权投资等多种路径支持半导体产业,2019年成立的大基金二期重点投资半导体设备和材料领域,北方华创、中微公司、盛美上海等头部设备企业的前十大股东中均能看到大基金身影。技术迭代放缓方面,芯片制程进入10nm以下后迭代速度明显减慢,为后来者追赶提供了时间窗口。
常见问题
中国半导体设备在全球处于什么水平?
整体处于追赶中段。去胶设备国产化率超90%,已具备全球竞争力;清洗、刻蚀、热处理等环节国产化率约20%,处于加速替代阶段;光刻、涂胶显影等高端环节仍处“零的突破”阶段。
产业转移对中国设备企业意味着什么?
全球半导体产业正第三次向中国大陆转移,大陆已成为全球最大设备需求市场。巨大的本土需求与低自给率形成反差,为国产设备企业提供了市场空间和验证机会。
国产设备追赶的有利条件有哪些?
制程迭代放缓降低了追赶难度,国家政策与大基金的资金支持加速了替代进程,下游晶圆厂对国产设备的接受度也在明显提升。