去胶设备国产化率已超过90%，主要国内厂家为屹唐股份，这一环节的成长性明显弱于其他设备赛道。 半导体设备的国产替代进程决定了企业当前的成长性：去胶设备国产化率在90%以上，替代空间已经很小；清洗设备、刻蚀设备、热处理设备国产化率在20%左右，PVD设备和CMP设备在10%左右，涂胶显影设备实现了零的突破，光刻设备预计将有零的突破。国产化率越高的环节，越难再靠“从无到有”获取增量，盈利模式相应要从替代驱动转向效率驱动。
各环节国产化率与所处阶段
| 设备名称 | 国产化率 | 主要国内厂家 |
|---|---|---|
| 去胶设备 | 90%以上 | 屹唐股份 |
| 清洗设备 | 20%左右 | 盛美股份、北方华创 |
| 刻蚀设备 | 20%左右 | 中微公司、北方华创、屹唐股份 |
| 热处理设备 | 20%左右 | 屹唐股份、北方华创 |
| PVD设备 | 10%左右 | 北方华创 |
| CMP设备 | 10%左右 | 华海清科 |
| 涂胶显影设备 | 零的突破 | 芯源微 |
| 光刻设备 | 预计将有零的突破 | 上海微电子 |
数据来源：盛美股份招股说明书、东方证券研究所
替代红利期与饱和期的盈利模式差异
国产替代是国内设备企业区别于海外企业最重要的一个点，也正是这一逻辑让国内设备企业具备了更好的成长性。国产化率在20%左右乃至更低的环节，仍处于替代红利期，企业的成长性主要来自份额提升；而去胶设备国产化率已超过90%，成长性肯定就比较弱了。
以屹唐股份为代表的去胶设备厂商，在替代空间收窄后，盈利模式的演变方向是从“替代驱动”转向“效率驱动”——通过提升产品竞争力、巩固已有份额、优化成本结构来维持经营质量。相比之下，清洗、刻蚀、热处理等国产化率约20%的环节，以及PVD、CMP等约10%的环节，仍处在替代红利期，企业的成长性与盈利模式与去胶环节存在明显差异。
设备赛道选择看什么
对设备企业而言，市场空间决定成长天花板，国产替代进程决定当前成长性。设备分类多、各环节差异大，企业很难通过自主研发实现跨设备发展，国际巨头应用材料也是通过不断外延并购才扩张成为多领域龙头，因此设备企业的出身（初始产品）很大概率上决定了成长天花板。从这个角度看，光刻、刻蚀和薄膜沉积三大核心设备赛道更符合长坡厚雪的标准。
常见问题
去胶设备国产化率超过90%后，还有成长空间吗？
去胶设备国产化率已在90%以上，替代驱动的成长性肯定比较弱。这一环节的企业更多要依靠产品竞争力、份额巩固和成本效率来支撑经营，而非依赖国产化率继续提升带来的增量。
哪些半导体设备环节仍处于替代红利期？
清洗设备、刻蚀设备、热处理设备国产化率在20%左右，PVD设备、CMP设备在10%左右，涂胶显影设备实现了零的突破，光刻设备预计将有零的突破。这些环节的国产替代进程仍在推进，成长性相对更强。
为什么设备企业的初始产品很重要？
半导体设备分类多、各环节差异大，企业很难通过自主研发实现跨设备发展，国际巨头应用材料也是通过持续外延并购才成为多领域龙头。因此初始产品很大概率上决定了企业的成长天花板，光刻、刻蚀和薄膜沉积三大核心赛道更符合长坡厚雪的标准。