2021年全球12英寸半导体硅片产能利用率升至98%,逼近2006年与2017、2018年的100%历史高点,硅片环节的供给瓶颈会沿“多晶硅料—单晶拉制—硅片加工—晶圆代工与存储芯片”这条链条逐级传导:上游高纯多晶硅与单晶拉制设备的需求被同步拉紧,下游晶圆代工与存储芯片则因12英寸硅片供给受限而面临原料保障压力。这一传导的核心逻辑在于,12英寸硅片是90nm以下逻辑芯片与存储芯片的主要衬底材料,而其扩产周期长达两到三年,短期供给弹性十分有限。
一、产能利用率98%意味着什么
从2019年的89%、2020年的91%到2021年的98%,12英寸硅片产能利用率在三年内快速抬升。这一水平已接近2006年、2017年、2018年出现的100%历史峰值。
产能利用率逼近顶点的直接含义是:现有产线的可用产出空间已被充分占用。2021年三、四季度全球12英寸硅片出货量基本持平,说明产量已触及阶段性天花板,继续满足增量需求只能依靠新增产能,而硅片厂商从建厂到量产通常需要两到三年,即便是经验丰富的大厂也不例外。因此供给紧张的缓解,需要等待新增产能陆续投产。
二、上下游链条如何传导
上游:多晶硅料与单晶拉制环节被同步拉紧。 半导体硅片以单晶硅为原料,主流制造方法为直拉法,即把高纯多晶硅熔化后用籽晶牵引、旋转提拉出单晶硅棒,约85%的硅片采用这一路线;其余约15%采用区熔法,纯度更高但难以生长大直径硅棒,主要用于8英寸及以下产品。硅片厂满产运行,意味着对高纯多晶硅料和单晶拉制环节的需求同步走强。
下游:晶圆代工与存储芯片承压。 90nm以下的产品大多使用12英寸硅片,逻辑芯片和存储芯片是典型代表。硅片作为半导体产业的基石,一旦供给受限,压力会直接传导至晶圆厂的原料保障环节。海外硅片大厂通常会优先保障头部晶圆厂,对大陆厂商的供给相应减少,这也为国内硅片企业加速替代提供了窗口。
| 环节 | 与12英寸硅片的关系 | 传导表现 |
|---|---|---|
| 上游多晶硅料 | 单晶拉制的直接原料 | 硅片满产带动原料需求走强 |
| 单晶拉制设备与工艺 | 直拉法为主、区熔法为辅 | 大尺寸单晶生长能力成为关键 |
| 下游晶圆代工 | 90nm以下制程的主要衬底 | 原料保障压力上升 |
| 存储芯片 | 12英寸硅片主要应用方向 | 供给节奏受硅片产出制约 |
三、国内厂商的进展与关键约束
国内以沪硅产业、立昂微、中环股份为代表的厂商已突破12英寸半导体硅片,神工股份、上海超硅等也在不同细分领域有所进展,并持续扩张产能。
但材料环节的技术壁垒主要体现在良率而非规模上。据行业情况,日本两家头部企业12英寸片(28nm以上)良率可达95%以上,国内企业良率普遍不到60%;良率通常要达到70%以后规模效应才会凸显。国内进展较快的上海新昇,正片率在60%到65%之间,刚能实现盈亏平衡。这意味着产能数字的扩张与实际有效供给之间仍存在差距。
常见问题
12英寸硅片产能利用率98%是历史最高吗?
不是。98%是2021年的水平,历史上2006年、2017年和2018年都曾达到100%。但从2019年89%、2020年91%到2021年98%的抬升节奏看,供给已明显趋紧。
为什么硅片环节的瓶颈会传导到晶圆代工?
因为12英寸硅片是90nm以下逻辑芯片和存储芯片的主要衬底材料,晶圆厂的可产出量直接受硅片供应约束。硅片厂满产后,增量需求只能等新增产能投产,而扩产周期通常为两到三年。
国内12英寸硅片能否填补供给缺口?
国内厂商已在12英寸硅片上取得突破并持续扩产,但良率是更关键的约束——良率通常要达到70%以后规模效应才会凸显。因此产能落地到形成有效供给,仍需技术积累的时间。