全球溅射PVD市场长期由应用材料主导，其份额约85%，东京电子约15%；而在国内存储厂长江存储的招标中，北方华创在溅射PVD细分领域的中标占比约20%，成为国产替代在该赛道的重要卡位者。整体来看，半导体薄膜沉积设备行业仍由国际巨头垄断，但国产厂商正在不同细分赛道形成差异化突破——北方华创强于溅射PVD，拓荆科技则聚焦PECVD与ALD。
溅射PVD：国产龙头的突破口
溅射PVD是物理气相沉积（PVD）的一种，在半导体薄膜沉积设备各细分品类中占比约19%。全球市场上，应用材料以约85%的份额占据绝对主导，东京电子约占15%。在这一格局下，北方华创凭借在溅射PVD领域的布局，成为国内少数能打破垄断的厂商——其PVD产品已覆盖90-14nm多个制程工艺，可用于集成电路、先进封装、功率半导体等多个领域。
从长江存储近年招标数据来看，北方华创在PVD细分设备中的中标占比可达20%左右。这一比例虽然与国际巨头仍有差距，但在国产设备中已属较高水平，反映出其在溅射PVD这一细分赛道的竞争位势。
细分赛道分化：不同国产厂商各有侧重
国产设备商在薄膜沉积领域的突破并非齐头并进，而是呈现明显的赛道分化。与北方华创在PVD领域的约20%份额形成对比，拓荆科技在CVD类设备中的中标占比约为2-3%。拓荆科技的优势方向在于PECVD——按招股书披露，其是国内唯一实现PECVD设备产业化的厂商，产品覆盖180-14nm逻辑芯片及64/128层3D NAND存储芯片。
两家公司在ALD领域均有布局，但技术节点存在差异：拓荆科技的ALD产品可覆盖14nm及以下逻辑芯片，北方华创的ALD技术节点覆盖至28nm。整体而言，国产薄膜沉积设备在长江存储的国产化率（按机台数量计算）总体在10%左右，而在华虹无锡、华力集成等产线，国产化率水平各有不同，反映出国产替代仍处于逐步推进阶段。
常见问题
溅射PVD在薄膜沉积设备中占比多少？
溅射PVD约占半导体薄膜沉积设备市场的19%，是仅次于PECVD（33%）的重要细分品类。
北方华创在溅射PVD领域的国产份额如何？
以长江存储招标数据为参考，北方华创在PVD细分设备中的中标占比约20%。其PVD产品覆盖90-14nm多个制程，已打破应用材料在该领域的垄断。
国产厂商在薄膜沉积各赛道的布局有何差异？
北方华创优势集中在溅射PVD，拓荆科技则在PECVD领域实现产业化突破，两家公司在ALD领域均有布局但技术节点不同——拓荆覆盖14nm及以下，北方华创覆盖至28nm。