在长江存储、华虹无锡、华力集成三家晶圆厂的招标数据中，薄膜沉积设备的国产化率在3%至11%之间波动，沈阳拓荆与北方华创是国产替代的两大领跑者，但各自优势领域不同。拓荆科技在PECVD（化学气相沉积）领域占据领先，而北方华创则在溅射PVD（物理气相沉积）领域更具竞争力。
国产化率数据：三家晶圆厂对比
根据长江存储、华虹无锡、华力集成三家晶圆厂的中标数据（以机台数量计算），国产化率呈现差异化分布：
| 晶圆厂 | 沈阳拓荆 | 北方华创 |
|---|---|---|
| 长江存储（2020年） | 3% | 4% |
| 华虹无锡（2020年） | 11% | 7% |
| 华力集成（2020年） | 5% | 10% |
总体来看，华虹无锡的国产化率最高（拓荆11%、北方华创7%），而长江存储的国产化率相对较低。两家厂商在不同客户中各有侧重：拓荆在存储客户（长江存储）和逻辑客户（华虹无锡）中均有突破，北方华创则在华力集成（逻辑）中占比提升明显。
两大领跑者的差异化竞争
沈阳拓荆：PECVD领域的国产龙头
拓荆科技是国内唯一一家实现PECVD设备产业化的厂商，产品覆盖180nm至14nm逻辑芯片及64/128层3D NAND存储芯片。其PECVD设备已在中芯国际、华虹集团、长江存储等主流客户中产业化应用或验证。在ALD（原子层沉积）领域，拓荆的PEALD设备可应用于14nm及以下逻辑芯片，处于国内领先地位。
北方华创：溅射PVD的强势玩家
北方华创在PVD、CVD和ALD三大技术方向均有布局，其中溅射PVD是核心优势，覆盖90nm至14nm制程，并已打破应用材料的垄断。在长江存储的薄膜设备采购中，北方华创的PVD设备占比可达20%左右。相比之下，其PECVD产品主要用于LED、光伏等泛半导体领域，与拓荆在集成电路PECVD上的重合度不高。
常见问题
为什么拓荆和北方华创在不同晶圆厂的占有率差异较大？
这主要源于两家公司的产品结构与客户策略不同。拓荆科技深耕PECVD和ALD，更契合存储芯片（如长江存储）和逻辑芯片（如华虹无锡）对介质薄膜沉积的需求；北方华创则以PVD见长，在逻辑芯片的金属互联工艺中优势明显，因此其在华力集成（逻辑）的占有率更高。
薄膜沉积设备中哪个细分品类市场最大？
PECVD是占比最大的细分品类，市场份额约为33%。其次是溅射PVD（19%）和管式CVD（12%）。ALD虽然目前占比仅11%，但因其在先进制程和3D结构中的关键作用，被认为是“兵家必争之地”。
拓荆科技和北方华创在ALD技术上的布局有何不同？
两家公司均有ALD产品，但技术节点存在差异：拓荆科技的PEALD设备可应用于14nm及以下逻辑芯片，而北方华创的ALD产品目前覆盖至28nm。拓荆在ALD领域更侧重于先进制程的突破。