薄膜沉积工序从90nm的40道增至3nm的100道，使得薄膜沉积设备在产线总成本中的占比显著提升，高端PVD、CVD及ALD设备凭借高单价与高毛利率，已成为半导体设备商盈利的核心。盈利模式也从单纯设备销售向高附加值设备与经常性服务收入并重转变。
工序翻倍推动成本结构变化
制程进步直接拉动了薄膜沉积设备的需求量。以3nm FinFET工艺产线为例，薄膜沉积工序达到100道，而90nm CMOS工艺仅需40道。工序翻倍意味着产线中薄膜沉积设备的台数和价值量大幅增加，从而推高其在设备总采购成本中的占比。设备商通过提供高精度的PVD、CVD和ALD设备，能够获取更高的单台设备收入。
盈利模式：设备销售与后服务并举
薄膜沉积设备的高技术壁垒决定了其高毛利率特征。领先设备商在PVD、CVD领域拥有较强议价能力，高端产品毛利率处于较高水平。同时，设备维护、备件更换及工艺优化等经常性服务收入成为盈利的重要补充，这种“设备+服务”的模式有助于平滑周期性波动，提升盈利稳定性。
常见问题
薄膜沉积设备毛利率水平如何？
高端PVD、CVD设备由于技术壁垒高、定制化程度强，其毛利率通常处于较高水平。具体数值需以各厂商官方披露及第三方研究报告为准。
设备维护与备件服务如何贡献收入？
设备商通过提供定期维护、备件更换、工艺升级等服务，与客户建立长期合作关系。这部分经常性收入不依赖新设备销售，能持续为厂商贡献现金流，是盈利模式的重要组成部分。
国产薄膜沉积设备厂商的盈利前景如何？
国产厂商如拓荆科技、北方华创已在PECVD、溅射PVD等领域实现产业化突破，并逐步切入ALD等高增长赛道。随着国产替代进程推进，其产品在产线中的渗透率有望提升，进而带动收入与盈利改善。