国家大基金位列拓荆科技第一大股东，半导体设备全球格局与中国位置如何？

国家集成电路产业投资基金（俗称“国家大基金”）位列拓荆科技第一大股东，持股19.86%，是这家薄膜沉积设备厂商股权结构中最醒目的特征。 结合国投（上海）相关基金持股13.68%、中微半导体持股8.40%，拓荆科技的股东名单同时汇聚了产业资本与设备同行。放到全球半导体设备格局中看，薄膜沉积各细分赛道仍由应用材料、泛林半导体、东京电子等国际厂商主导，而拓荆科技是国内唯一实现PECVD设备产业化的厂商，正是观察中国半导体设备全球位置的一个具体切口。

全球格局：细分赛道高度集中

薄膜沉积设备与刻蚀、光刻并列为三大核心设备，主要包括CVD、PVD、ALD和外延四大类方法，其中PECVD占比最大，约33%；ALD占比约11%，但因能支撑先进制程与3D结构，被称为“兵家必争之地”。

从竞争格局看，各细分赛道集中度很高：

（数据来源：Gartner，转引自拓荆科技招股书，华创证券整理）

格局分散也是这一市场的特点——占比最高的PECVD也只有33%，因此更考验厂商对薄膜材料覆盖的广度与深度。

中国位置：国产替代进行时

国内薄膜沉积设备的需求体量不小。据国盛证券测算，中国大陆对CVD和PVD的市场需求合计约200亿元。但从产线中标数据看，国产化率仍处于爬坡阶段：在长江存储的招标中，CVD类设备的国产供应商主要是拓荆科技，合计占比约2%—3%；北方华创在溅射PVD这一细分中占比相对较高，可达20%左右；华虹无锡、华力集成等产线的薄膜设备国产化率总体在10%左右。

拓荆科技的产品已覆盖规模最大的PECVD和需求增长最快的ALD，以及SACVD。其PECVD设备工艺覆盖180—14nm逻辑芯片及64层、128层3D NAND，可兼容氧化硅、氮化硅等薄膜材料；PEALD设备能够应用于14nm及以下逻辑芯片。招股书披露，公司是国内唯一实现PECVD设备产业化的厂商。

大基金入局意味着什么

国家大基金以19.86%持股位列第一大股东，国投（上海）相关基金持股13.68%，中微半导体持股8.40%——这一结构意味着拓荆科技同时获得了国家级产业资本与半导体设备同行的双重支持。在细分赛道由国际巨头主导、国产化率仍待提升的背景下，这类产业资本的长期陪伴，是国产设备厂商推进技术迭代与客户验证的重要支撑。

常见问题

国家大基金在拓荆科技持股多少？

国家集成电路产业投资基金股份有限公司持有拓荆科技19.86%股份，为第一大股东；国投（上海）创业投资管理有限公司相关基金持股13.68%，中微半导体设备（上海）股份有限公司持股8.40%。

拓荆科技在国产半导体设备中处于什么位置？

拓荆科技主攻薄膜沉积设备，产品覆盖PECVD、ALD和SACVD，按招股说明书披露，是国内唯一实现PECVD设备产业化的厂商，与北方华创共同构成薄膜沉积领域国产替代的主力。北方华创的优势集中在溅射PVD方向，两家公司在ALD领域均有布局。

薄膜沉积设备的国产化率目前如何？

从长江存储、华虹无锡、华力集成等产线的设备中标数据看，国产化率因产线和设备类型而异：长江存储CVD类设备中国产供应商占比约2%—3%，华虹无锡、华力集成的薄膜设备国产化率总体在10%左右，整体仍处于提升过程中。