国家集成电路产业投资基金股份有限公司持有拓荆科技19.86%股份，为第一大股东，国投（上海）相关基金持股13.68%，中微半导体持股8.40%——这一国家级资本与产业方共同持股的格局，是观察半导体设备国产替代与自主可控进程的重要样本。从薄膜沉积这一核心环节看，国产设备已在PECVD等细分赛道实现产业化突破，并进入主流晶圆厂供应链，但各细分赛道仍由国际巨头主导，整体国产化率仍处于爬坡阶段。

国家级资本与产业方共同持股的股东结构

据拓荆科技首发上市时披露的前十大股东明细，国家集成电路产业投资基金股份有限公司持股19.86%，国投（上海）创业投资管理有限公司相关基金持股13.68%，中微半导体设备（上海）股份有限公司持股8.40%。中微公司同为国产半导体设备企业，其持股拓荆科技，形成了产业方之间的资本联结。这一股东结构意味着，国产设备企业的发展既有国家级产业基金的资本支持，也有同行产业方的协同参与。

薄膜沉积的国产替代进展

薄膜沉积与刻蚀、光刻并列为半导体制造三大核心工艺。在薄膜沉积各细分品类中，PECVD占比最大（33%），ALD需求增长最快，是先进制程的“兵家必争之地”。从下游晶圆厂中标数据看，国产替代呈现明显的结构性差异：北方华创在溅射PVD细分设备中占比较高，可达20%左右；而CVD类设备的国产供应商主要是拓荆科技，总占比约2-3%。在长江存储的采购中，拓荆科技2018至2020年中标薄膜设备数量分别为1台、4台、3台，国产化率约1%至4%；华虹无锡的薄膜设备国产化率总体在10%左右，其中拓荆科技2020年达11%。

国产设备厂商的产业化能力

拓荆科技成立于2010年，主要产品为薄膜沉积设备，已覆盖规模最大的PECVD和需求增长最快的ALD，以及SACVD。按招股说明书披露，公司是国内唯一一家实现PECVD设备产业化的厂商，产品工艺覆盖180-14nm制程的逻辑芯片，以及64层和128层3D NAND，兼容氧化硅、氮化硅等薄膜材料；其PEALD设备在国内处于领先地位，可应用于14nm及以下逻辑芯片。客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储等。北方华创则在PVD、CVD和ALD三大方向均有布局，优势集中在溅射PVD领域，官网介绍已推出13款PVD产品，覆盖90-14nm多个制程工艺。

常见问题

国家大基金为什么重仓拓荆科技？

国家集成电路产业投资基金以19.86%持股成为拓荆科技第一大股东，同期国投（上海）相关基金持股13.68%、中微半导体持股8.40%。这种“国家级基金+产业方”的持股结构，体现了产业资本对薄膜沉积设备这一核心环节国产化企业的支持，也为公司持续研发和产能扩张提供了资本基础。

半导体薄膜沉积设备的国产替代走到哪一步了？

从下游晶圆厂中标数据看，国产替代在细分赛道上进展不一。溅射PVD领域，北方华创占比较高，可达20%左右；CVD类设备国产供应商以拓荆科技为主，总占比约2-3%。华虹无锡、华力集成等产线的薄膜设备国产化率总体在10%左右，整体仍处于爬坡阶段。

拓荆科技的产品能支持哪些制程？

按招股说明书披露，拓荆科技的PECVD产品工艺已覆盖180-14nm制程的逻辑芯片，以及64层和128层3D NAND；其PEALD设备可应用于14nm及以下逻辑芯片。公司产品已进入中芯国际、华虹集团、长江存储等主流晶圆厂的供应链。