从拓荆科技成立到国家大基金入股，薄膜沉积设备国产化的关键拐点，集中体现在资本入场、产品产业化和下游验证三条线索的交汇：拓荆科技于2010年成立，中微公司持股8.40%，国家集成电路产业投资基金股份有限公司以25,121,755股（19.86%）位列第一大股东；公司成为国内唯一实现PECVD设备产业化的厂商，产品工艺覆盖180-14nm逻辑芯片，PEALD设备可广泛应用于14nm及以下逻辑芯片，薄膜沉积国产化率也从个位数逐步爬坡至10%左右。

拐点一：产业资本入场与股东结构成型

薄膜沉积设备长期由应用材料、东京电子等国际巨头主导，各细分赛道集中度较高。拓荆科技2010年成立，专注薄膜沉积设备这一细分方向。按招股说明书披露，中微公司是其股东之一，持股比例为8.40%；国家集成电路产业投资基金股份有限公司持股25,121,755股，占比19.86%，位列第一大股东。产业资本与半导体设备同行股东的进入，为这条国产化路径提供了资金与产业链协同的支撑。

拐点二：PECVD产业化与制程覆盖扩展

薄膜沉积设备品类分散，占比最大的PECVD份额为33%，需求增长最快的则是ALD。拓荆科技的产品已覆盖PECVD、ALD和SACVD，其中PECVD是主力产品，公司也是国内唯一实现PECVD设备产业化的厂商。产品工艺覆盖180-14nm制程的逻辑芯片，以及64层和128层3D NAND，并可兼容氧化硅、氮化硅等薄膜材料；PEALD设备在国内处于领先地位，可广泛应用于14nm及以下逻辑芯片。

拐点三：下游验证与国产化率爬坡

国产化进度可从主流晶圆厂的中标数据观察。以长江存储薄膜设备采购为例，中标沈阳拓荆的设备数量从2018年的1台增至2019年的4台、2020年的3台；按机台数量计算的国产化率，沈阳拓荆2018年至2020年分别为1%、4%、3%。华虹无锡的国产化率更高，沈阳拓荆2019年、2020年分别为5%、11%；华力集成2018年至2020年稳定在4%-5%。整体看，薄膜沉积设备国产化率仍处于10%左右的爬坡阶段。

常见问题

拓荆科技在薄膜沉积国产化中的位置是什么？

拓荆科技主要产品为薄膜沉积设备，已覆盖规模最大的PECVD和需求增长最快的ALD，并布局SACVD。按招股说明书披露，公司是国内唯一实现PECVD设备产业化的厂商，产品工艺覆盖180-14nm逻辑芯片。

国家大基金在拓荆科技的持股情况如何？

国家集成电路产业投资基金股份有限公司持有拓荆科技25,121,755股，持股比例19.86%，为第一大股东。同期中微公司持股8.40%，为公司股东之一。

薄膜沉积设备的国产化率目前处于什么水平？

从长江存储、华虹无锡、华力集成等晶圆厂的中标数据看，国产厂商份额从个位数逐步提升，华虹无锡等产线的国产化率相对更高，但总体仍在10%左右，处于爬坡阶段。