全球薄膜沉积设备市场长期由应用材料、东京电子、泛林半导体等国际巨头主导，而拓荆科技是国内唯一一家实现PECVD设备产业化的厂商，在国产替代进程中处于关键位置。从主流晶圆厂的中标数据看，拓荆科技在长江存储的CVD设备国产化率（以机台数量计算）从2018年的1%提升至2020年的3%，在华虹无锡2020年达到11%，显示出其在PECVD赛道的稳步突破。
市场格局：国际巨头垄断，国产厂商多点突破
在薄膜沉积设备领域，PECVD是占比最大的细分品类，市场份额约33%。全球竞争格局中，应用材料在CVD领域占据28%份额，泛林半导体占25%，东京电子占11%；在ALD领域，东京电子以45%的份额领先；PVD领域则由应用材料以85%的份额高度垄断。
国内市场中，拓荆科技与北方华创是国产替代的两大主力，但两者优势方向不同。拓荆科技的核心优势集中在PECVD，产品已覆盖180-14nm制程的逻辑芯片以及64层、128层3D NAND存储芯片；北方华创则在溅射PVD领域占比更高，在长江存储中标数据中可达20%左右，而拓荆科技在CVD类设备的总占比约为2-3%。
拓荆科技：PECVD唯一产业化国产厂商
拓荆科技成立于2010年，主要产品覆盖PECVD、ALD和SACVD三大类。据其招股说明书披露，公司是国内唯一实现PECVD产业化的厂商，PECVD是其主力产品，已进入中芯国际、华虹集团、长江存储等主流产线。此外，公司的PEALD设备在国内处于领先地位，可应用于14nm及以下的逻辑芯片制造。
从产品布局看，拓荆科技的PECVD设备覆盖12英寸和8英寸晶圆，其中PF-300T系列已实现产业化应用，支持28nm以上制程；PF-300T eX处于产业化验证阶段，面向14-28nm制程；面向10nm以下制程的PF-300T pX仍在研发中。ALD产品方面，FT-300T（PE）已实现产业化应用，针对128层以上3D NAND的FT-300H仍在研发阶段。
常见问题
拓荆科技与北方华创在薄膜沉积领域有何差异？
两家公司各有侧重：拓荆科技是PECVD领域唯一实现产业化的国产厂商，北方华创的优势集中在溅射PVD领域。在ALD方面两家均有布局，拓荆科技的PEALD覆盖至14nm节点，北方华创的ALD产品技术节点覆盖至28nm。
拓荆科技的产品进入了哪些客户产线？
据其招股说明书披露，拓荆科技的PECVD产品客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、重庆万国半导体等，SACVD产品客户包括北京燕东，PEALD产品客户为ICRD。
国产薄膜沉积设备的国产化率处于什么水平？
以长江存储中标数据为例，拓荆科技在CVD设备的国产化率从2018年的1%升至2020年的3%；在华虹无锡，拓荆科技2020年的国产化率达到11%。整体来看，华虹无锡和华力集成的薄膜沉积设备国产化率总体在10%左右，仍有较大提升空间。