钙钛矿组件的膜层工艺覆盖玻璃、传输层、钙钛矿层与电极等多个环节，各环节对设备的需求并不相同。从设备价值量看，PVD（含RPD）约占40%、涂布约占20%、激光设备约占10%，其余为封装及其他自动化设备。众能光电的产品线同时覆盖镀膜、涂布与激光刻蚀三类设备：在镀膜环节，其被列为溅射镀PVD与蒸镀PVD的国产供应商；在钙钛矿层，其提供涂布机及涂布、刮涂一体机；在P1—P4激光工序，其被列为激光设备主要厂商，并曾完成刻蚀设备出货。这一布局与下游"从玻璃到电极都要镀膜"的工艺分布形成对应。

镀膜：除钙钛矿层外几乎全覆盖

钙钛矿电池从一开始的玻璃到最后的电极都会用到PVD。玻璃环节下游往往外采，若自制则需气相沉积法设备，典型为PECVD与PVD；之后的两个传输层以及电极同样会用到PVD。可以说，除钙钛矿层外，钙钛矿的其他部分都会涉及PVD设备，这正是镀膜设备价值量居首的原因。

技术路线上，PVD只是一种原理，晶硅与钙钛矿的侧重点不同：晶硅更倾向水平式（卧式）设备，钙钛矿则倾向立式——钙钛矿在玻璃上镀膜，尺寸放大后放入水平式设备易发生自然形变，立式可自下而上镀膜。

众能光电在镀膜环节的覆盖情况如下：

镀膜设备类型众能光电是否在列其他主要厂商（资料所列）
溅射镀PVD是捷佳伟创、京山轻机（晟成光伏）、湖南红太阳
蒸镀PVD是京山轻机（晟成光伏）、合肥欣奕华、德竹芯源（进口：加拿大Angstrom Engineering）
RPD未列入捷佳伟创
ALD未列入湖南红太阳（进口：荷兰SMIT）

涂布与激光：钙钛矿层成膜及P1—P4刻蚀

钙钛矿层用狭缝涂布机。从量产角度看，狭缝涂布的系统处于相对封闭空间，涂布过程更稳定，因此成为主流选择。众能光电被列为钙钛矿层涂布机的国产供应商之一，此外还提供涂布、刮涂一体机。

激光方面，钙钛矿电池需要P1、P2、P3、P4共四道激光，分别用于去除TCO层、功能层、背电极的加工与膜层清除。从事钙钛矿激光设备的厂商大致分两类：专做激光的企业，以及传统光伏设备厂商。众能光电属于前者，其在2021年底已完成50套刻蚀设备的出货，并被列为P1—P4激光设备的主要厂商之一。

常见问题

众能光电的设备覆盖钙钛矿哪些膜层环节？

众能光电的产品线覆盖镀膜、涂布与激光刻蚀三类：镀膜端被列为溅射镀PVD与蒸镀PVD供应商，涂布端提供钙钛矿层涂布机及涂布刮涂一体机，激光端对应P1—P4四道工序。整体上，除钙钛矿层外，钙钛矿其他部分都会涉及PVD设备，而钙钛矿层本身则由涂布设备承担。

为什么钙钛矿镀膜设备更倾向立式结构？

钙钛矿是在玻璃上镀膜，当玻璃尺寸变大后，放入水平式设备容易发生自然形变，而立式设备可以自下而上镀膜。相比之下，晶硅因硅片薄片化趋势，水平放置镀膜更有利于固定，因此两条路线在设备形态上侧重点不同。

钙钛矿的P1—P4激光分别做什么？

四道激光分别用于去除TCO层、功能层、背电极的加工以及膜层清除。众能光电在这一环节被列为激光设备主要厂商，并曾完成刻蚀设备的批量出货。